[實(shí)用新型]一種石英蓋及真空反應(yīng)腔室

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201521037086.1
• 申請(qǐng)日: 2015-12-14
• 公開（公告）號(hào): CN205194654U
• 公開（公告）日: 2016-04-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔣中偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): H01J37/32
• 分類號(hào): H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td>

1.一種石英蓋，設(shè)置于真空反應(yīng)腔室的上部，其特征在于， 所述石英蓋包括石英密封板和石英勻流板，所述石英密封板與所 述真空反應(yīng)腔室的側(cè)壁和真空反應(yīng)腔室的底壁圍成所述真空反應(yīng) 腔室的內(nèi)腔，所述石英勻流板位于所述內(nèi)腔且在所述石英密封板 的下方，所述石英密封板上設(shè)置有進(jìn)氣口，所述石英勻流板具有 至少兩個(gè)通孔，所述進(jìn)氣口、所述通孔和所述內(nèi)腔之間連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英蓋，其特征在于，所述石英密 封板底部設(shè)置有凹槽，所述凹槽用于容納所述石英勻流板，以在 所述石英密封板與所述石英勻流板之間形成分布工藝氣體的氣體 勻流層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的石英蓋，其特征在于，所述石英勻 流板與所述凹槽的側(cè)壁，或所述真空反應(yīng)腔室的側(cè)壁固定連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英蓋，其特征在于，還包括密封 圈，該密封圈位于所述石英密封板與所述真空反應(yīng)腔室的側(cè)壁之 間，所述石英密封板和/或所述真空反應(yīng)腔室的側(cè)壁上設(shè)置有用于 容納所述密封圈的凹槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4任意一項(xiàng)所述的石英蓋，其特征在于， 在所述石英勻流板上由中心向外的所述通孔的分布密度由低到 高。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～4任意一項(xiàng)所述的石英蓋，其特征在于， 在所述石英勻流板上由中心向外的所述通孔的直徑由小到大。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～4任意一項(xiàng)所述的石英蓋，其特征在于， 所述通孔為圓柱孔、圓錐孔、臺(tái)階孔中的一種或幾種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～4任意一項(xiàng)所述的石英蓋，其特征在于， 所述通孔的中心軸與所述真空反應(yīng)腔室的中心軸平行，或所述通 孔的中心軸由上至下向所述真空反應(yīng)腔室的外側(cè)傾斜。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～4任意一項(xiàng)所述的石英蓋，其特征在于， 所述通孔在所述石英勻流板上均勻分布。

10.一種真空反應(yīng)腔室，其特征在于，包括權(quán)利要求1～9任 意一項(xiàng)所述的石英蓋。