[實(shí)用新型]基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201521035838.0 | 申請日： | 2015-12-10 |
| 公開（公告）號： | CN205263024U | 公開（公告）日： | 2016-05-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 牛林;劉宇;韓曉平;張維維;馬睿;李帥 | 申請（專利權(quán)）人： | 山東大學(xué) |
| 主分類號： | G01N27/28 | 分類號： | G01N27/28 |
| 代理公司： | 濟(jì)南金迪知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37219 | 代理人： | 呂利敏 |
| 地址： | 250199 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基于 局部 電化學(xué) 掃描 探針 研究 電解池 | ||
1.一種基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池，其特征在于，該電解池包括電解池槽腔和圍成所述電解池槽腔的側(cè)壁，所述側(cè)壁的前部設(shè)置有觀察窗，所述側(cè)壁的左部和右部分別垂直嵌設(shè)有與所述電解池槽腔相連通的第一圓孔和第二圓孔；在所述電解池槽腔的底部設(shè)置有用于固定待測試樣的固定裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池，其特征在于，所述第一圓孔和第二圓孔的高度與所述電解池槽腔的深度一致。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池，其特征在于，所述第一圓孔和第二圓孔分別通過在所述側(cè)壁內(nèi)設(shè)置的矩形通道與電解池槽腔連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池，其特征在于，所述電解池的外部尺寸如下，長度范圍：55-60mm，寬度范圍：55-60mm，高度范圍：55-60mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池，其特征在于，所述電解池槽腔的尺寸如下，長度范圍：35-40mm，寬度范圍：35-40mm，高度范圍：45-50mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池，其特征在于，所述固定裝置為設(shè)置在所述電解池槽腔底部的凹槽，所述的凹槽為圓柱形。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池，其特征在于，所述圓柱形的凹槽的尺寸如下，直徑范圍：4-5mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池，其特征在于，所述第一圓孔和第二圓孔的直徑分別為5-6mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池，其特征在于，所述矩形通道的橫截面的尺寸如下：寬度范圍：4-5mm，高度范圍：10-15mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于局部電化學(xué)掃描探針研究的電解池，其特征在于，所述觀察窗的厚度范圍：2-3mm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于山東大學(xué)，未經(jīng)山東大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201521035838.0/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
