[實用新型]一種具有高發光效率的發光二極管有效
| 申請號: | 201521024108.0 | 申請日: | 2015-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN205303512U | 公開(公告)日: | 2016-06-08 |
| 發明(設計)人: | 林志偉;陳凱軒;張永;卓祥景;姜偉;方天足;陳亮 | 申請(專利權)人: | 廈門乾照光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/64 | 分類號: | H01L33/64;H01L33/52;H01L33/44 |
| 代理公司: | 揚州市錦江專利事務所 32106 | 代理人: | 江平 |
| 地址: | 361000 福建省廈*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 發光 效率 發光二極管 | ||
1.一種具有高發光效率的發光二極管,包括襯底,在襯底上依次設置緩沖層、非故意摻雜層、n型導電層、有源區、電子阻擋層、p型導電層、p型歐姆接觸層和ITO透明導電層,在n型導電層上連接n電極,在n電極側面和外延層側面設置電極隔離層,在p型導電層上連接p電極,在芯片表面設置芯片保護層;其特征在于在朝向緩沖層的襯底表面設置形貌不同的PSS表面圖形,在p電極設置區域的襯底上的PSS表面圖形較其它區域大,且隨著遠離p電極設置區域,PSS表面圖形呈現漸變減小的規律;在p電極下方設置位錯阻擋層,所述位錯阻擋層設置在p電極設置區域內的ITO透明導電層以下至部分n型導電層;在位錯阻擋層下方設置位錯線密集區,所述位錯線密集區設置在p電極設置區域內的部分n型導電層以下至非故意摻雜層。
2.根據權利要求1所述發光二極管,其特征在于:所述位錯線密集區的面積不超過p電極面積的80%。
3.根據權利要求1所述發光二極管,其特征在于:所述位錯阻擋層上表面與p型歐姆接觸層齊平。
4.根據權利要求1所述發光二極管,其特征在于:在ITO透明導電層上的p電極區域不超過p電極總面積的10%。
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