[實用新型]一種X射線立臥式攝片防護裝置有效
| 申請號: | 201521017345.4 | 申請日: | 2015-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN205198016U | 公開(公告)日: | 2016-05-04 |
| 發明(設計)人: | 崔慎棟;林德政;王磊 | 申請(專利權)人: | 崔慎棟 |
| 主分類號: | A61B6/10 | 分類號: | A61B6/10 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 276500 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 射線 臥式 防護 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及X射線立臥式攝片防護裝置技術領域,尤其涉及一種X射線立臥式攝片防護裝置。
背景技術
目前,臨床在對受檢者進行X光片攝片診斷時,為避免非受照部位受到不必要的照射,一般采用鉛防護帽、鉛防護圍脖、鉛防護圍裙等鉛橡皮防護套件,用來進行防護。上述方式在實際使用中存在一定的不足,醫護人員使用不方便,而且重量大、防護效果不理想,病人穿戴不便,尤其是對老幼患者和臥床患者更為不便,在拍片過程中對防護部位還有過防和缺防的情況,醫護人員勞動強度大,拍片效率低,為此我們提出了一種X射線立臥式攝片防護裝置,用來解決上述問題。
發明內容
本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點,而提出的一種X射線立臥式攝片防護裝置。
為了實現上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:一種X射線立臥式攝片防護裝置,包括底座,所述底座上設有兩根固定立柱,兩根固定立柱上均套接有升降立柱,兩根固定立柱上均設有第一固定裝置,所述升降立柱之間設有兩根支架,所述支架貫穿升降立柱,所述支架通過第二固定裝置固定在升降立柱上,所述支架上設有T型凹槽,所述T型凹槽內設有兩個T型連接塊,所述T型連接塊上設有伸縮桿,所述伸縮桿上設有第三固定裝置,所述伸縮桿遠離T型連接塊的一端設有防護簾。
優選地,所述底座的下端設有萬向輪。
優選地,所述第三固定裝置為鎖緊螺釘。
優選地,所述底座和兩根固定立柱為一體成型。
本實用新型中,使用時,調節升降立柱的高度到合適的高度,通過第一固定裝置將其固定,支架可以進行旋轉從而帶動防護簾轉動,支架可以通過第二固定裝置固定,支架上的T型連接塊可以通過T型凹槽滑動,從而帶動防護簾移動,還可以通過伸縮桿細微調整位置,根據病人需要防護的部位,將防護簾調整到合適的位置,本實用新型設計合理,結構簡單,操作方便,對患者非受照部位進行有效的防護,避免了過防和缺防情況的出現,減輕了醫護人員的勞動強度,提高了工作效率。
附圖說明
圖1為本實用新型提出的一種X射線立臥式攝片防護裝置的結構示意圖;
圖2為本實用新型提出的一種X射線立臥式攝片防護裝置的支架和防護簾的側視圖。
圖中:1底座、2固定立柱、3第一固定裝置、4伸縮桿、5第二固定裝置、6支架、7防護簾、8升降立柱、9第三固定裝置、10T型凹槽、11T型連接塊。
具體實施方式
下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。
參照圖1-2,一種X射線立臥式攝片防護裝置,包括底座1,底座1上設有兩根固定立柱2,兩根固定立柱2上均套接有升降立柱8,調節升降立柱8的高度到合適的高度,兩根固定立柱2上均設有第一固定裝置3,通過第一固定裝置3將其固定,升降立柱8之間設有兩根支架6,支架6貫穿升降立柱8,支架6通過第二固定裝置5固定在升降立柱8上,支架6可以進行旋轉從而帶動防護簾7轉動,支架6可以通過第二固定裝置5固定,支架6上設有T型凹槽10,T型凹槽10內設有兩個T型連接塊11,T型連接塊11上設有伸縮桿4,伸縮桿4上設有第三固定裝置9,伸縮桿4遠離T型連接塊11的一端設有防護簾7,支架6上的T型連接塊11可以通過T型凹槽10滑動,從而帶動防護簾7移動,可以通過伸縮桿4細微調整位置,根據病人需要防護的部位,將防護簾7調整到合適的位置。
本實用新型中底座1的下端設有萬向輪,方便移動。第三固定裝置9為鎖緊螺釘。底座1和兩根固定立柱2為一體成型。
本實用新型中,使用時,調節升降立柱8的高度到合適的高度,通過第一固定裝置3將其固定,支架6可以進行旋轉從而帶動防護簾7轉動,支架6可以通過第二固定裝置5固定,支架6上的T型連接塊11可以通過T型凹槽10滑動,從而帶動防護簾7移動,還可以通過伸縮桿4細微調整位置,根據病人需要防護的部位,將防護簾7調整到合適的位置。
以上所述,僅為本實用新型較佳的具體實施方式,但本實用新型的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內,根據本實用新型的技術方案及其實用新型構思加以等同替換或改變,都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。
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