[實用新型]一種釹鐵硼真空熔煉研磨裝置

有效

• 申請號: 201520983611.2
• 申請日: 2015-12-02
• 公開（公告）號: CN205140740U
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發明（設計）人: 馮偉
• 申請（專利權）人: 寧波可可磁業有限公司
• 主分類號: H01F41/02
• 分類號: H01F41/02
• 代理公司: 余姚德盛專利代理事務所(普通合伙) 33239
• 代理人: 胡小永

1.一種釹鐵硼真空熔煉研磨裝置，其特征在于：所述釹鐵硼真空熔煉研磨裝置包括真空箱(1)、熔煉爐(2)、冷卻裝置(3)及收集箱(4)；所述熔煉爐(2)、冷卻裝置(3)及收集箱(4)由上到下依次分布于真空箱(1)內；真空箱(1)的內頂面設有與熔煉爐(2)相匹配鉸接的支撐桿(11)，該支撐桿(11)與熔煉爐(2)的鉸接處位于熔煉爐(2)平方時的重心偏上處；該真空箱(1)的內頂面還設置有液壓裝置(12)及液壓桿(13)，所述液壓桿(13)的一端與液壓裝置(12)相匹配鉸接，該液壓桿(13)的另一端與熔煉爐(2)的下端側邊相匹配鉸接；所述冷卻裝置(3)是由多層縱橫垂直交錯的冷卻管道(31)組成的；所述真空箱(1)內還設置有漏斗狀輸送管道(14)及研磨裝置(15)；所述漏斗狀輸送管道(14)置于冷卻裝置(3)及收集箱(4)之間；所述研磨裝置(15)安置于漏斗狀輸送管道(14)的漏斗口處，該研磨裝置(15)包括研磨電機(151)、研磨軸(152)及研磨輪(153)。

2.根據權利要求1所述的釹鐵硼真空熔煉研磨裝置，其特征在于：所述冷卻裝置(3)的冷卻管道(31)由上至下共有四層；第一層及第三層的所述冷卻管道(31)橫向等間距均勻分布，第三層的該冷卻管道(31)分布于第一層的冷卻管道(31)的間隙正下方；第二次及第四層的冷卻管道(31)縱向等間距分布，第四層的該冷卻管道(31)分布于第二層的冷卻管道(31)的間隙正下方。

3.根據權利要求2所述的釹鐵硼真空熔煉研磨裝置，其特征在于：第一層及第二層的所述冷卻管道(31)置于同一水平面并垂直貫通相交成網狀，第三層及第四層的所述冷卻管道(31)同樣置于同一水平面并垂直貫通相交成網狀。

4.根據權利要求1所述的釹鐵硼真空熔煉研磨裝置，其特征在于：所述冷卻裝置(3)的多層冷卻管道(31)由下至上依次貫通連接；最下層的冷卻管道(31)處設置有冷水進口(32)，最上層的冷卻管道(31)處設有出水口(33)。

5.根據權利要求4所述的釹鐵硼真空熔煉研磨裝置，其特征在于：所述冷水進口(32)及出水口(33)之間連接有制冷裝置(34)。

6.根據權利要求1所述的釹鐵硼真空熔煉研磨裝置，其特征在于：所述真空箱(1)的外側壁上設置有震動裝置(5)。