[實用新型]蒸鍍機的噴嘴系統

有效

• 申請號: 201520964646.1
• 申請日: 2015-11-26
• 公開（公告）號: CN205133726U
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發明（設計）人: 張珅駿;朱曉慶
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 許志勇

技術領域

本申請涉及PVD(PhysicalVaporDeposition)領域，尤其涉及一種蒸鍍機的 噴嘴系統。

背景技術

真空鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術。在真空室內蒸發材料的 原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。

蒸發鍍膜是通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面的一種真空鍍膜 技術。蒸發材料如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源。待鍍 工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待坩堝抽至高真空后，加熱 坩堝使其中的蒸發材料進而從噴嘴噴出。蒸發材料的原子或分子以冷凝方式沉 積在基片表面。

如圖1和圖2所述為一種蒸鍍機的噴嘴系統的示意圖。

線源21作為蒸發材料收納于坩堝12內。待坩堝12抽至高真空后，加熱 器13加熱坩堝12使線源21蒸發進而從噴嘴11噴出，線源21的原子或分子 以冷凝的方式沉積在待鍍工件表面。

在實現現有技術過程中，發明人發現現有技術中至少存在如下問題：

坩堝12局部加熱不均勻時，或者，由于噴嘴11設置的傾斜角度不合理時， 導致噴嘴11內蒸發材料分布不均勻，容易導致噴嘴11堵塞。當碰嘴11堵塞 時，需要先降低坩堝12的溫度以免燙傷操作人員。接著，需要破除坩堝12內 的真空，否則由于坩堝12內外氣壓差，不易除去噴嘴11內的堵塞。破除真空 時，有大量保持真空的氮氣逸出，因此，需要等待氮氣完全逸出后，才能采取 去除堵塞的動作，否則容易導致操作人員窒息。去除堵塞后，需要抽取坩堝 12內空氣，保持坩堝12內真空環境，然后，加熱使得坩堝12升溫以便蒸發 材料蒸發從而開始工作。從坩堝12降溫、破除真空、去除堵塞、抽真空、坩 堝12升溫完成整個堵塞去除的時間較長。

因此，需要提供一種解決噴嘴11堵塞處理時間長的技術問題的技術方案。

實用新型內容

本申請實施例提供一種解決噴嘴堵塞處理時間長的技術問題的蒸鍍機的 噴嘴系統。

具體的，一種蒸鍍機的噴嘴系統，包括：

具有用于收容蒸鍍材料的容納腔的載具；

布設于載具周圍的用于加熱蒸鍍材料的加熱器；

安裝于載具并用于供蒸鍍材料從載具中噴出的噴嘴；

安裝于容納腔內的氣壓傳感器；

布設于噴嘴周圍、用于熔融噴嘴內堵塞的蒸鍍材料的、受氣壓傳感器控制 電路通斷的防堵塞加熱器。

優選的，所述載具為坩堝；

所述坩堝包括坩堝主體和坩堝蓋；

所述氣壓傳感器安裝于坩堝蓋內壁。

優選的，所述蒸鍍機的噴嘴系統還包括邏輯控制器；

所述氣壓傳感器和防堵塞加熱器與邏輯控制器電性連接，并受邏輯控制器 控制。

優選的，所述蒸鍍機的噴嘴系統還包括報警器；

所述報警器與邏輯控制器電性連接，用于在氣壓超過預設閾值時發出警報。

優選的，所述載具具有初始狀態位置和工作狀態位置；

載具的位置由邏輯控制器控制；

當發生堵塞時，邏輯控制器將載具從工作狀態位置復位到初始狀態位置。

優選的，所述防堵塞加熱器為電阻加熱、感應加熱、電弧加熱、電子束加 熱、紅外線加熱和介質加熱中的至少一種。

優選的，所述防堵塞加熱器為電阻線圈；

所述電阻線圈纏繞于噴嘴周圍。

優選的，所述氣壓傳感器的耐高溫指標高于400℃。

本申請實施例提供的蒸鍍機的噴嘴系統，至少具有如下有益效果：

當噴嘴發生堵塞時，氣壓傳感器控制防堵塞加熱器熔融噴嘴內堵塞的蒸鍍 材料，從而可以解決噴嘴堵塞處理時間長的技術問題。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本申請的進一步理解，構成本申請的一部分， 本申請的示意性實施例及其說明用于解釋本申請，并不構成對本申請的不當限 定。在附圖中：

圖1為本申請實施例改進前的噴嘴系統示意圖。

圖2為圖1的剖視圖。

圖3為本申請實施例提供的噴嘴系統示意圖。

具體實施方式