[實用新型]OCA光學(xué)離型膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520948131.2
• 申請日: 2015-11-24
• 公開（公告）號: CN205219956U
• 公開（公告）日: 2016-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 方友;唐元才
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東弘擎電子材料科技有限公司
• 主分類號: B32B27/06
• 分類號: B32B27/06;B32B27/36;B32B33/00;B32B27/28
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11246
• 代理人: 連平

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及離型膜領(lǐng)域，具體涉及OCA光學(xué)離型膜。

背景技術(shù)

近年來，觸控面板大幅地被運用在各種電子產(chǎn)品上，在觸控面板的制作過 程中，需要將玻璃基板、偏光板、導(dǎo)電膜等光學(xué)膜材相互黏合，而由于OCA光 學(xué)膠具有黏著性強、光學(xué)穿透率高、安定性佳等優(yōu)點，因此目前多使用OCA光 學(xué)膠來達(dá)到黏合光學(xué)組件的目的。

然而，OCA光學(xué)膠包含一個OCA光學(xué)膠層與二個離型膜，這些離型膜分 別貼附于該OCA光學(xué)膠層的上下表面，以方便收存與取用該OCA光學(xué)膠，當(dāng) 需使用OCA光學(xué)膠時，必須先將位于該OCA光學(xué)膠層其中一表面上的離型膜 剝離，以黏附到一光學(xué)膜材上，接著再將位于該OCA光學(xué)膠層另一表面上的離 型膜剝離，以黏附到另一光學(xué)膜材，達(dá)到黏合兩個光學(xué)膜材的功效，但由于OCA 光學(xué)膠層較為濃稠，當(dāng)剝離該離型膜時，容易產(chǎn)生離型力不穩(wěn)定導(dǎo)致剝離的過 程對OCA光學(xué)膠造成一定程度的破壞致使OCA光學(xué)膠的表面不平整，且殘余 附著率低以及不耐高溫。

實用新型內(nèi)容

為解決上述問題，本實用新型提供本一種離型力穩(wěn)定、殘余高、離型平整 且耐高溫的OCA光學(xué)離型膜。

本實用新型采用的技術(shù)方案是：OCA光學(xué)離型膜，包括基材層、防靜電涂 層、底涂層和硅油層，所述防靜電層涂覆在基材層的一側(cè)，所述底涂層涂覆在 基材層的另一側(cè)，所述底涂層的另一側(cè)涂覆有硅油層。

優(yōu)選的，所述基材層為PET光學(xué)級聚酯薄膜。

優(yōu)選的，所述底涂層的厚度為10～15μm。

優(yōu)選的，所述硅油層的厚度為5～10μm。

優(yōu)選的，所述防靜電涂層的厚度為5～8μm。

優(yōu)選的，所述離型膜的厚度總和為40～60μm。

本實用新型的有益效果為：本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，在基材層上涂覆有底涂 層，起到防潮以及基材層采用PET光學(xué)級聚酯薄膜，使離型膜具有低霧度和高 透光率、表面光潔度高、厚度公差小等出色的光學(xué)性能，硅油層的厚度為5～10 μm，保證離型力的穩(wěn)定，且離型平整。

附圖說明

圖1為本實用新型的OCA光學(xué)離型膜的結(jié)構(gòu)示意圖；

以上附圖中：1、基材層；2、防靜電涂層；3、底涂層；4、硅油層。

具體實施方式

下面將結(jié)合附圖對本實用新型作進一步的說明。

如圖1所示，為本實用新型的OCA光學(xué)離型膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

OCA光學(xué)離型膜，包括基材層1、防靜電涂層2、底涂層3和硅油層4。

防靜電涂層2涂覆在基材層1的一側(cè)，防靜電涂層2的厚度為6μm，防靜 電涂層2能夠有效解決靜電造成的粘灰問題，基材層1為PET光學(xué)級聚酯薄膜， 基材層1采用PET光學(xué)級聚酯薄膜，使離型膜具有低霧度和高透光率、表面光 潔度高、厚度公差小等出色的光學(xué)性能；

底涂層3涂覆在基材層1的另一側(cè)，底涂層3的厚度為12μm，在基材層1 上涂覆有底涂層3，增加了離型膜的抗?jié)B透能力；

底涂層3的另一側(cè)涂覆有硅油層4，硅油層4的厚度為7μm，保證離型力 的穩(wěn)定，且離型平整；

離型膜的厚度總和為45μm，節(jié)省材料，剝離帶離的材料小于95％，霧度 值小于5％，主要用于OCA光學(xué)膠貼合，且可用于各種液晶顯示屏和電子產(chǎn)品 屏幕保護中。

以上所述實施例僅表達(dá)了本實用新型的一種實施方式，其描述較為具體和 詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本實用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是， 對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下，還可以 做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。因此，本實用新型 專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。