[實(shí)用新型]一種用于真空氮化的高精度真空動(dòng)態(tài)控制系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520939008.4 | 申請(qǐng)日: | 2015-11-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN205223334U | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃躍學(xué);鄧喬楓;卞健;林國(guó)強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇豐東熱技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C8/24 | 分類號(hào): | C23C8/24 |
| 代理公司: | 無(wú)錫互維知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32236 | 代理人: | 王愛(ài)偉 |
| 地址: | 224199 江蘇省鹽*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 真空 氮化 高精度 動(dòng)態(tài) 控制系統(tǒng) | ||
1.一種用于真空氮化的高精度真空動(dòng)態(tài)控制系統(tǒng),包括真空爐罐、進(jìn)氣系 統(tǒng)和排氣系統(tǒng),所述進(jìn)氣系統(tǒng)與所述排氣系統(tǒng)通過(guò)所述真空爐罐相連接,所述 進(jìn)氣系統(tǒng)包括第一進(jìn)氣管道及第二進(jìn)氣管道;所述排氣系統(tǒng)包括排氣管道,所 述排氣管道上設(shè)有抽真空系統(tǒng),其特征在于:
所述第一進(jìn)氣管道上設(shè)有第一進(jìn)氣控制裝置,所述第一進(jìn)氣控制裝置用于 控制所述第一進(jìn)氣管道的進(jìn)氣量;
所述第二進(jìn)氣管道上設(shè)有第二進(jìn)氣控制裝置,所述第二進(jìn)氣控制裝置用于 控制所述第二進(jìn)氣管道的進(jìn)氣量;
所述排氣管道上設(shè)有排氣控制裝置,所述排氣控制裝置用于控制所述排氣 管道的排氣量。
2.如權(quán)利要求1所述的用于真空氮化的高精度真空動(dòng)態(tài)控制系統(tǒng),其特征 在于:
所述第一進(jìn)氣控制裝置包括第一壓力繼電器、第一減壓閥、第一主路真空 角閥及第一傍路真空角閥;
所述第二進(jìn)氣控制裝置包括第二壓力繼電器、第二減壓閥、第二主路真空 角閥及第二傍路真空角閥。
3.如權(quán)利要求2所述的用于真空氮化的高精度真空動(dòng)態(tài)控制系統(tǒng),其特征 在于:
所述第一進(jìn)氣管道上還設(shè)有第一質(zhì)量流量計(jì)及第一流量計(jì);
所述第二進(jìn)氣管道上還設(shè)有第二質(zhì)量流量計(jì)及第二流量計(jì)。
4.如權(quán)利要求3所述的用于真空氮化的高精度真空動(dòng)態(tài)控制系統(tǒng),其特征 在于,所述第二進(jìn)氣管道上設(shè)有單向閥。
5.如權(quán)利要求1所述的用于真空氮化的高精度真空動(dòng)態(tài)控制系統(tǒng),其特征 在于,所述排氣控制裝置包括蝶形角閥、排氣真空角閥及真空比例閥。
6.如權(quán)利要求5所述的用于真空氮化的高精度真空動(dòng)態(tài)控制系統(tǒng),其特征 在于,所述排氣管道上設(shè)有熱交換器。
7.如權(quán)利要求5述的用于真空氮化的高精度真空動(dòng)態(tài)控制系統(tǒng),其特征在 于,所述排氣管道上設(shè)有波紋管。
8.如權(quán)利要求1所述的用于真空氮化的高精度真空動(dòng)態(tài)控制系統(tǒng),其特征 在于,其還包括與所述真空爐罐連接的真空度檢測(cè)系統(tǒng),所述真空度檢測(cè)系統(tǒng) 包括智能壓力變送器及真空計(jì)探頭。
9.如權(quán)利要求1所述的用于真空氮化的高精度真空動(dòng)態(tài)控制系統(tǒng),其特征 在于,所述抽真空系統(tǒng)包括羅茨泵和旋片干泵。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C8-00 金屬材料表面中僅滲入非金屬元素的固滲
C23C8-02 .被覆材料的預(yù)處理
C23C8-04 .局部表面的處理,例如使用掩蔽物的
C23C8-06 .使用氣體的
C23C8-40 .使用液體,例如鹽浴、懸浮液的
C23C8-60 .使用固體,例如粉末、膏劑的
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