[實用新型]一種用于2.79μm有效補償熱退偏效應的激光器結構

有效

• 申請號: 201520931404.2
• 申請日: 2015-11-19
• 公開（公告）號: CN205195037U
• 公開（公告）日: 2016-04-27
• 發明（設計）人: 王金濤;程庭清;王禮;邢庭倫;胡舒武;崔慶哲;吳先友;江海河
• 申請（專利權）人: 中國科學院合肥物質科學研究院
• 主分類號: H01S3/115
• 分類號: H01S3/115;H01S3/16;H01S3/042;H01S3/0941
• 代理公司: 安徽合肥華信知識產權代理有限公司 34112
• 代理人: 余成俊

1.一種用于2.79μm有效補償熱退偏效應的激光器結構，其特征在于：包括周圍環繞有 半導體泵浦模塊的激光棒，激光棒前端前方設有輸出腔片，還包括激光電源、退壓調Q高壓 模塊、兩組調Q晶體、起偏器，所述調Q晶體為長方體狀的鈮酸鋰晶體，鈮酸鋰晶體經X-Y-Z方 向切割形成LN電光的調Q晶體，且調Q晶體的X軸方向加電場、沿Z軸方向通光，其中第一組調 Q晶體的Z軸與激光棒中心軸同軸，第一組調Q晶體的前端與激光棒后端相對，且第一組調Q 晶體的后端后方設有全反腔片，所述起偏器設在激光棒后端與第一組調Q晶體前端之間，第 二組調Q晶體設置在起偏器一側，且第二組調Q晶體Z軸一端傾斜對準起偏器，第二組調Q晶 體Z軸另一端外亦設有全反腔片，由兩組調Q晶體和起偏器構成電光Q開關，兩組調Q晶體分 別與退壓調Q高壓模塊連接，由退壓調Q高壓模塊分別向兩組調Q晶體施加電場，所述激光電 源分別供電至退壓調Q高壓模塊、半導體泵浦模塊；

激光電源向半導體泵浦模塊提供能量，半導體泵浦模塊產生泵浦光，泵浦光進入激光 棒內進行泵浦產生高脈沖激光，在激光棒前端高脈沖激光經過輸出腔片出射，在激光棒后 端高脈沖激光經過電光調Q開關調Q后，再經過全反腔片反射后依次經過激光棒、輸出腔片 出射。

2.根據權利要求1所述的一種用于2.79μm有效補償熱退偏效應的激光器結構，其特征 在于：還包括激光水冷系統，所述激光水冷系統分別通過管路與激光棒、半導體泵浦模塊連 接，所述激光電源供電至激光水冷系統，由激光水冷系統向激光棒、半導體泵浦模塊提供恒 溫冷卻水。

3.根據權利要求1所述的一種用于2.79μm有效補償熱退偏效應的激光器結構，其特征 在于：所述激光棒采用Er:YSGG激光晶體，激光棒的前、后端端面分別鍍2.79μm增透膜。

4.根據權利要求1所述的一種用于2.79μm有效補償熱退偏效應的激光器結構，其特征 在于：所述全反腔片的朝向激光棒前端的一面鍍2.79μm全反膜，輸出腔片的朝向激光棒前 端的一面鍍80%反射膜，輸出腔片的朝向激光棒后端的一面鍍2.79μm增透膜。

5.根據權利要求1所述的一種用于2.79μm有效補償熱退偏效應的激光器結構，其特征 在于：所述調Q晶體的兩Y-Z面分別鍍金作為電極，保證了電場的均勻性，調Q晶體的雙X-Y面 分別鍍2.79μm增透膜。