[實用新型]一種提高芯片可靠性的封裝結構有效
| 申請號: | 201520928534.0 | 申請日: | 2015-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN205122561U | 公開(公告)日: | 2016-03-30 |
| 發明(設計)人: | 張黎;龍欣江;賴志明;陳棟;陳錦輝 | 申請(專利權)人: | 江陰長電先進封裝有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/31 | 分類號: | H01L23/31;H01L23/535;H01L23/49;H01L23/12;H01L21/56;H01L21/60;H01L21/78 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 趙華 |
| 地址: | 214429 江蘇省無錫市江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提高 芯片 可靠性 封裝 結構 | ||
1.一種提高芯片可靠性的封裝結構,其包括上表面附有芯片電極(13)及相應電路布局的芯片單體(10),所述芯片單體(10)的芯片本體(11)的上表面覆蓋芯片表面鈍化層(15)并開設有芯片表面鈍化層開口(151),芯片電極(13)的上表面露出芯片表面鈍化層開口(151),
其特征在于:所述芯片單體(10)的前后左右四個側壁各設置有加強結構,
還包括薄膜包封體(2),所述芯片單體(10)由背面嵌入薄膜包封體(2)內,在所述芯片表面鈍化層開口(151)內填充先形成鎳層再形成金層的鎳/金層(17),在所述芯片單體(10)的上表面和薄膜包封體(2)的上表面覆蓋絕緣薄膜層Ⅰ(51),并于所述鎳/金層(17)的上表面開設絕緣薄膜層Ⅰ開口(511),在絕緣薄膜層Ⅰ(51)的上表面形成再布線金屬層(4)和絕緣薄膜層Ⅱ(52),所述再布線金屬層(4)填充絕緣薄膜層Ⅰ開口(511),所述再布線金屬層(4)通過鎳/金層(17)與芯片電極(13)實現電性連接,在再布線金屬層(4)的最外層設有輸入/輸出端(411),所述絕緣薄膜層Ⅱ(52)覆蓋再布線金屬層(4)并露出輸入/輸出端(411),在所述輸入/輸出端(411)處形成連接件(6),所述薄膜包封體(2)的背面設置硅基加強板。
2.根據權利要求1所述的一種提高芯片可靠性的封裝結構,其特征在于:所述加強結構為芯片單體(10)的前后左右四個側面分別與其背面形成傾斜角α,其取值范圍:10度≤α<90度。
3.根據權利要求2所述的一種提高芯片可靠性的封裝結構,其特征在于:所述傾斜角α為25度、30度、45度、60度、75度。
4.根據權利要求1所述的一種提高芯片可靠性的封裝結構,其特征在于:所述加強結構為兩個斜面和上下連接該兩個斜面的一平面,靠近芯片電極(13)的斜面的傾斜角α1的取值范圍為10~90度,遠離芯片電極13的斜面的傾斜角α2的取值范圍為10~90度,且α2≥α1。
5.根據權利要求4所述的一種提高芯片可靠性的封裝結構,其特征在于:所述傾斜角α1為25度、30度、45度、60度、75度,所述傾斜角α2為25度、30度、45度、60度、75度、90度。
6.根據權利要求1所述的一種提高芯片可靠性的封裝結構,其特征在于:所述絕緣薄膜層Ⅰ開口(511)的尺寸不大于芯片表面鈍化層開口(151)的尺寸。
7.根據權利要求1或6所述的一種提高芯片可靠性的封裝結構,其特征在于:所述絕緣薄膜層Ⅰ開口(511)內植入金屬柱,所述金屬柱連接再布線金屬層(4)與鎳/金層(17)。
8.根據權利要求1所述的一種提高芯片可靠性的封裝結構,其特征在于:所述連接件(6)是焊球凸點、焊塊或金屬塊。
9.根據權利要求1所述的一種提高芯片可靠性的封裝結構,其特征在于:所述再布線金屬層(4)為單層或多層。
10.根據權利要求1或9所述的一種提高芯片可靠性的封裝結構,其特征在于:所述再布線金屬層(4)的輸入/輸出端(411)設置于芯片單體(10)的垂直區域的外圍。
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