[實(shí)用新型]錐頭陶瓷發(fā)熱體

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520912000.9
• 申請日: 2015-11-17
• 公開（公告）號: CN205071333U
• 公開（公告）日: 2016-03-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王江;王仁學(xué);管偉
• 申請（專利權(quán)）人: 王江
• 主分類號: H05B3/10
• 分類號: H05B3/10;H05B3/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及陶瓷加熱器，特別是適用于中間小、兩頭大的具有配合錐頭外形的陶瓷發(fā)熱體。

背景技術(shù)

陶瓷加熱具有環(huán)保、安全，傳熱快等特點(diǎn)，可應(yīng)用于各類加熱器具中。現(xiàn)有技術(shù)的陶瓷發(fā)熱體大多為形狀單一的平板外形，在對接觸面積和接觸有緊密配合錐形等要求發(fā)熱體，現(xiàn)有技術(shù)的陶瓷發(fā)熱體不能滿足要求。

實(shí)用新型內(nèi)容

基于此，針對現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的所要解決的技術(shù)問題就是提供一種安全環(huán)保、結(jié)構(gòu)簡單、具有緊密配合錐形的錐頭陶瓷發(fā)熱體。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案為：

一種錐頭陶瓷發(fā)熱體，包括陶瓷發(fā)熱體及電極引線，所述陶瓷發(fā)熱體包括兩層絕緣支撐陶瓷層，以及設(shè)在兩層所述絕緣支撐陶瓷層之間的發(fā)熱電阻層，其特征在于，所述陶瓷發(fā)熱體包括依次無縫連接的空心圓錐頭、空心細(xì)圓柱和空心粗圓柱。

在其中一個實(shí)施例中，所述空心細(xì)圓柱的細(xì)圓柱高度大于所述空心粗圓柱的粗圓柱高度、所述空心圓錐頭的錐頭高度。

在其中一個實(shí)施例中，所述細(xì)圓柱高度不小于所述粗圓柱高度與錐頭高度的高度和。

在其中一個實(shí)施例中，所述空心細(xì)圓柱的細(xì)圓柱寬度小于所述空心圓錐頭的錐頭寬度，所述錐頭寬度小于所述空心粗圓柱的粗圓柱寬度。

在其中一個實(shí)施例中，所述電極設(shè)在所述空心粗圓柱的內(nèi)側(cè)或外側(cè)。

在其中一個實(shí)施例中，所述發(fā)熱電阻層包括發(fā)熱線路和/或傳感線路。

相對現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的錐頭陶瓷發(fā)熱體，具有緊密配合錐形的空心圓錐頭，采用中級小、兩頭大的結(jié)構(gòu)，能較好滿足配合外形要求的器型、更大接觸面積的粉體、流體加熱性能要求。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的錐頭陶瓷發(fā)熱體結(jié)構(gòu)剖面圖。

圖中，1--空心圓錐頭；2--空心細(xì)圓柱；3--空心粗圓柱；4--引線；L1--細(xì)圓柱高度；L2--粗圓柱高度；L3--錐頭高度;W1--細(xì)圓柱寬度；W2--粗圓柱寬度；W3--錐頭寬度。

具體實(shí)施方式

下面參考附圖并結(jié)合實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。需要說明的是，在不沖突的情況下，以下各實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。

圖1給出了本實(shí)用新型的錐頭陶瓷發(fā)熱體的結(jié)構(gòu)剖面圖，該錐頭陶瓷發(fā)熱體包括依次無縫連接的空心圓錐頭1、空心細(xì)圓柱2、空心粗圓柱3和電極引線4，空心圓錐頭1、空心細(xì)圓柱2、空心粗圓柱3都是結(jié)構(gòu)包括兩層絕緣支撐陶瓷層，以及設(shè)在兩層所述絕緣支撐陶瓷層之間的發(fā)熱電阻層的陶瓷加熱體。細(xì)圓柱高度L1大于粗圓柱高度L2、錐頭高度L3，并且，較優(yōu)地，細(xì)圓柱高度L1不小于粗圓柱高度L2和錐頭高度L3的高度和。細(xì)圓柱寬度W1小于錐頭寬度W3，錐頭寬度W3小于粗圓柱寬度W2。引線4設(shè)在空心粗圓柱3上，優(yōu)選地，設(shè)在空心粗圓柱3的內(nèi)側(cè)。

從以上可知，本實(shí)用新型的錐頭陶瓷發(fā)熱體，具有緊密配合錐形的空心圓錐頭，采用中級小、兩頭大的結(jié)構(gòu)，能較好滿足配合外形要求的器型、更大接觸面積的粉體、流體加熱性能要求。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此，本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。