[實用新型]控制與保護開關的滅弧系統

有效

• 申請號: 201520900405.0
• 申請日: 2015-11-12
• 公開（公告）號: CN205140813U
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發明（設計）人: 胡立超;陳良芳
• 申請（專利權）人: 浙江歐億科技有限公司
• 主分類號: H01H9/30
• 分類號: H01H9/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種控制與保護開關，更具體地說它涉及一種控制與保護開關的滅弧系統。

背景技術

控制與保護開關產品采用模塊化的單一產品結構型式,集成了傳統的斷路器(熔斷器)、接觸器、過載(或過流、斷相)保護繼電器、起動器、隔離器等的主要功能,主要用于交流50Hz(60Hz)、額定電壓至690V、額定電流自0.8A至630A、可調工作電流自0.8A至630A的電力系統中接通、承載和分斷正常條件(包括規定的過載條件)下的電路,且能夠接通、承載并分斷規定的非正常條件(如短路)下的電路。控制與保護開關是斷路器、接觸器、熱繼電器、熔斷器等低壓電器的最佳替代產品。

目前，在申請號為CN201420738826.3的中國發明專利：一種控制與保護開關電器的滅弧裝置，包括設在基座腔內的滅弧柵片組件、容置于基座腔底部的引弧板和隔板，滅弧柵片組件與動、靜觸頭組合之間具有電弧轉移通道區域，滅弧柵片組件包括多個滅弧柵片，多個滅弧柵片以層疊狀間隔設置，每一滅弧柵片在朝向隔板的一端形成有窄縮的腿部，引弧板在朝向電弧轉移通道區域內的兩側折彎有導磁板，隔板的一側與導磁板嵌配，特點：隔板的另一側設置有呈層疊狀間隔設置的多個間隔件，多個間隔件與多個滅弧柵片的腿部的位置相對應，用于對多個滅弧柵片的腿部之間進行分隔定位。

如上述專利中所公開的結構，滅弧室通常由滅弧柵片組成，若干平行排列的滅弧柵片形成若干并列電弧通道，這些電弧通道與電弧的飛出方向正對，從而將一個長弧分隔呈多段短弧并穿過與之對應的電弧通道，從而起到滅弧效果，但這種方式只能起到分割電弧長度的作用，并沒有增加電弧的飛弧距離，在相同體積的殼體內，電弧的飛行距離不變，滅弧效果難以進一步提高，無法實現零飛弧效果。

發明內容

針對現有技術存在的不足，本發明的目的在于提供一種滅弧效果好的控制與保護開關的滅弧系統。

為實現上述目的，本發明提供了如下技術方案：一種控制與保護開關的滅弧系統，包括：內部具有空腔、用于安裝觸頭組的殼體，安裝在殼體內、用于接通/斷開電連接的觸頭組，用于消除觸頭組分斷時產生的電弧的滅弧系統，以及排出氣體的排氣口，所述滅弧系統包括：由多片滅弧片組成、用于分割電弧長度的滅弧片組，以及引導電弧流動的滅弧通道，其中：所述滅弧通道一端開口、另一端封閉，所述滅弧通道的開口端與電弧飛出的軌跡之間設置有用于令電弧進入滅弧通道的連接通道。

通過采用上述技術方案，首先通過滅弧片組分割截斷長電弧，繼而利用單開口的滅弧通道容納電弧，電弧從滅弧通道的開口出飛入，在達到另一端時，由于該端封閉，電弧回流，從而有效增加了電弧的飛行距離，顯著加強了滅弧系統的滅弧效果，實現零飛弧作用。利用在觸頭盒外、開關殼體內加設外滅弧室，巧妙增加了滅弧距離，有效加強滅弧系統的滅弧效果，原本突破內滅弧室從排氣孔排出的電弧在電弧通道中進入外滅弧室繼續滅弧，保證零飛弧，安全性能從本質上提高。

本發明進一步設置為：所述滅弧片組包括上滅弧片組和下滅弧片組，分別設置在電弧飛出軌跡的兩側，相鄰的兩片滅弧片之間形成所述的滅弧通道。

通過采用上述技術方案，利用分布在電弧飛出軌跡兩邊的滅弧片組對電弧進行全面、有效的分割，最大化滅弧通道的數量排布，進一步提高滅弧效果。

本發明進一步設置為：所述上滅弧片組和下滅弧片組中距離觸頭組最近的滅弧片為門滅弧片，其余為里滅弧片，所述上滅弧片組和下滅弧片組中的門滅弧片對齊設置。

通過采用上述技術方案，電弧飛出時，經門滅弧片形成的入口進入滅弧系統，通過對齊設置的門滅弧片，產生衍射現象，令電弧更加順利的進入滅弧通道，保證滅弧系統的滅弧效果。

本發明進一步設置為：所述上滅弧片組和下滅弧片組中的里滅弧片相互交錯設置，所述滅弧片的靠近電弧飛出軌跡的一端上套有能受電弧作用產生氣流的產氣板。

通過采用上述技術方案，交錯設置的里滅弧片呈犬牙狀分別，進一步擴大了滅弧片對電弧的衍射作用，令電弧依次由進入各個滅弧通道，加強滅弧系統的滅弧效果，保證零飛弧，并通過所述產氣板與電弧接觸時，遇熱產生氣體的現象，一方面利用釋放出的絕緣性氣體加強滅弧效果，另一方面絕緣性氣體的產生提高了殼體內部的壓力，從而令殼體內部的氣體形成一股朝向排氣口流出的氣流，有效引導電弧的飛行方向，防止電弧回流對觸頭組產生損害。對引弧片的位置起加固作用，防止引弧片因電弧沖擊出現擺動。

本發明進一步設置為所述滅弧片與電弧飛出軌跡相垂直，所述滅弧片靠近電弧飛出軌跡的一端上開設有引弧槽。