[實(shí)用新型]一種帶靜電液霧清洗裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520899117.8 | 申請(qǐng)日: | 2015-11-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN205092223U | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馮曉敏;吳儀 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 陶金龍;張磊 |
| 地址: | 100016 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 靜電 清洗 裝置 | ||
1.一種帶靜電液霧清洗裝置,其特征在于,包括一本體,所述本體內(nèi)設(shè)有一液體流道,環(huán)繞液體流道設(shè)有氣體緩沖腔,所述液體流道連通本體下端面設(shè)有的液體出口,所述氣體緩沖腔連通本體下端面環(huán)繞液體出口密布設(shè)置的多數(shù)個(gè)氣體出口,所述液體流道、氣體緩沖腔各自連通本體上設(shè)有的液體進(jìn)口、氣體進(jìn)口;其中,通過(guò)由液體進(jìn)口通入清洗液體,經(jīng)液體流道從液體出口噴出,形成霧化液滴,由氣體進(jìn)口通入帶電離子風(fēng),經(jīng)氣體緩沖腔從氣體出口噴出,接觸使霧化液滴帶電,以對(duì)其下方晶圓進(jìn)行沖洗及去除晶圓表面的靜電。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,所述液體流道垂直設(shè)于本體內(nèi),其具有一段先逐漸擴(kuò)張、再逐漸收縮至液體出口的液體緩沖腔,所述液體流道連通本體上端面設(shè)置的液體進(jìn)口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的清洗裝置,其特征在于,所述液體出口為孔形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的清洗裝置,其特征在于,所述液體出口包括一中心孔以及環(huán)繞中心孔設(shè)置的環(huán)形狹縫。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清洗裝置,其特征在于,所述環(huán)形狹縫朝向中心孔的外側(cè)向下傾斜設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,所述本體側(cè)部設(shè)有一至若干個(gè)氣體進(jìn)口,所述氣體進(jìn)口按與本體垂直軸向成一定夾角向下傾斜設(shè)置,并連通氣體緩沖腔。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,所述本體側(cè)部設(shè)有一至若干個(gè)氣體進(jìn)口,所述氣體進(jìn)口按與氣體緩沖腔的水平切向設(shè)置,并連通氣體緩沖腔。
8.根據(jù)權(quán)利要求1、6或7所述的清洗裝置,其特征在于,所述氣體緩沖腔包括上下連通設(shè)置的第一、第二氣體緩沖腔,所述第一氣體緩沖腔連通氣體進(jìn)口,所述第一、第二氣體緩沖腔之間具有截面呈收縮形的連通段。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清洗裝置,其特征在于,自第一氣體緩沖腔向第二氣體緩沖腔具有圓滑過(guò)渡的腔壁。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清洗裝置,其特征在于,所述第一氣體緩沖腔的容積小于第二氣體緩沖腔。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司,未經(jīng)北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520899117.8/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 光源裝置、照明裝置、液晶裝置和電子裝置
- 預(yù)測(cè)裝置、編輯裝置、逆預(yù)測(cè)裝置、解碼裝置及運(yùn)算裝置
- 圖像形成裝置、定影裝置、遮光裝置以及保持裝置
- 打印裝置、讀取裝置、復(fù)合裝置以及打印裝置、讀取裝置、復(fù)合裝置的控制方法
- 電子裝置、光盤(pán)裝置、顯示裝置和攝像裝置
- 光源裝置、照明裝置、曝光裝置和裝置制造方法
- 用戶(hù)裝置、裝置對(duì)裝置用戶(hù)裝置、后端裝置及其定位方法
- 遙控裝置、通信裝置、可變裝置及照明裝置
- 透鏡裝置、攝像裝置、處理裝置和相機(jī)裝置
- 抖動(dòng)校正裝置、驅(qū)動(dòng)裝置、成像裝置、和電子裝置





