[實用新型]新型機用等離子弧割炬

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520893139.3
• 申請日: 2015-11-10
• 公開（公告）號: CN205074660U
• 公開（公告）日: 2016-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 潘宇鋒
• 申請（專利權(quán)）人: 常州九圣焊割設(shè)備有限公司
• 主分類號: B23K10/00
• 分類號: B23K10/00
• 代理公司: 常州市英諾創(chuàng)信專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32258
• 代理人: 于桂賢

1.一種新型機用等離子弧割炬，包括割炬本體(1)、設(shè)置在割炬本體(1)上端的氣管(2)和引弧線(3)、設(shè)置在割炬本體(1)下端的噴口(4)以及設(shè)置在割炬本體(1)內(nèi)部的電極(5)，所述割炬本體(1)內(nèi)部設(shè)有電極底座(7)，所述電極(5)上端與所述電極底座(7)的下端連接，所述電極底座(7)側(cè)壁與所述割炬本體(1)側(cè)壁之間設(shè)有噴口底座(8)，所述噴口(4)上端與所述噴口底座(8)下端連接，所述噴口底座(8)與所述引弧線(3)連接，所述噴口(4)罩設(shè)在所述電極(5)的前端，且所述噴口(4)與所述電極(5)之間形成等離子氣體通道(9)，所述噴口(4)外部設(shè)有保護罩，且所述保護罩與所述噴口(4)之間形成冷卻氣體通道(15)，其特征在于：還包括中心氣管(6)和氣體分流結(jié)構(gòu)，所述中心氣管(6)位于所述電極底座(7)內(nèi)部，所述中心氣管(6)上端與所述氣管(2)連通，所述中心氣管(6)下端延伸至電極(5)內(nèi)部的前端，且所述中心氣管(6)側(cè)壁外側(cè)與所述電極(5)側(cè)壁內(nèi)側(cè)形成回流氣體通道(12)，所述氣體分流結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述中心氣管(6)外表面與所述割炬本體(1)內(nèi)表面之間。

2.如權(quán)利要求1所述的新型機用等離子弧割炬，其特征在于：所述噴口(4)與所述噴口底座(8)連接端的外側(cè)設(shè)有壓緊外套，所述壓緊外套包括銅外套(10)和絕緣外套(11)，所述銅外套(10)套接在所述噴口(4)與所述噴口底座(8)連接處的外側(cè)，所述絕緣外套(11)套接在所述銅外套(10)后部的外側(cè)圓周上，且向后延伸至所述割炬本體(1)處。

3.如權(quán)利要求2所述的新型機用等離子弧割炬，其特征在于：所述氣體分流結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在所述電極底座(7)與所述噴口底座(8)之間的絕緣件(17)，所述電極(5)后部的中心氣管(6)側(cè)壁外側(cè)表面與所述電極底座(7)側(cè)壁內(nèi)側(cè)表面之間形成的第一氣室(18)，所述電極底座(7)側(cè)壁外側(cè)表面與所述絕緣件(17)側(cè)壁內(nèi)側(cè)表面之間形成第二氣室(19)，所述絕緣件(17)側(cè)壁外側(cè)表面與所述噴口底座(8)內(nèi)側(cè)表面之間的第三氣室(20)，所述噴口底座(8)前端外側(cè)表面與所述銅外套(10)內(nèi)側(cè)表面之間的第四氣室(21)，設(shè)置在所述電極底座(7)側(cè)壁上且連通所述第一氣室(18)與所述第二氣室(19)的第一氣孔(22)，設(shè)置在絕緣件(17)側(cè)壁上且連通所述第二氣室(19)與所述第三氣室(20)的第二氣孔(23)，設(shè)置在所述噴口底座(8)下端側(cè)壁上連通所述第三氣室(20)與所述第四氣室(21)的第三通孔(24)以及設(shè)置在第四氣室(21)下端的銅外套(10)側(cè)壁上的第四通孔，所述第四通孔與所述第四氣室(21)連通，所述第二氣室(19)下端與所述等離子氣體通道(9)連通，所述第四氣室(21)與所述冷卻氣體通道(15)連通。

4.如權(quán)利要求3所述的新型機用等離子弧割炬，其特征在于：所述第四通孔包括內(nèi)孔(25)和外孔(26)，所述內(nèi)孔(25)連通所述第四氣室(21)與所述冷卻氣體通道(15)，所述外孔(26)連通所述第四氣室(21)與所述保護罩外側(cè)連通。

5.如權(quán)利要求3或4所述的新型機用等離子弧割炬，其特征在于：所述保護罩包括銅件(13)和設(shè)置在所述銅件(13)后端的陶瓷件(14)，所述銅件(13)罩設(shè)在所述噴口(4)的外側(cè)，所述陶瓷件(14)設(shè)于所述銅外套(10)與所述銅件(13)之間，且所述陶瓷件(14)向前端延伸至超過所述銅外套(10)前端邊緣，所述陶瓷件(14)向后端延伸至超過所述銅件(13)后端邊緣。

6.如權(quán)利要求5所述的新型機用等離子弧割炬，其特征在于：所述銅件(13)前端周向均勻設(shè)置多個氣孔(16)，所述氣孔(16)連通所述冷卻氣體通道(15)與所述銅件(13)外部。

7.如權(quán)利要求1-4或6任一項所述的新型機用等離子弧割炬，其特征在于：所述中心氣管(6)為黃銅材料制成。

8.如權(quán)利要求1-4或6任一項所述的新型機用等離子弧割炬，其特征在于：所述電極(5)為紫銅材料制成。

9.如權(quán)利要求8所述的新型機用等離子弧割炬，其特征在于：所述電極(5)前端為圓頭形，且所述電極(5)外側(cè)設(shè)有鍍鎳層。

10.如權(quán)利要求1所述的新型機用等離子弧割炬，其特征在于：所述割炬本體(1)外表鑲嵌有不銹鋼外套。