[實用新型]適用于高真空下的團簇沉積樣品襯底座有效
| 申請號： | 201520887616.5 | 申請日： | 2015-11-10 |
| 公開（公告）號： | CN205099748U | 公開（公告）日： | 2016-03-23 |
| 發明（設計）人： | 邵瑋 | 申請（專利權）人： | 蘇州新銳博納米科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/50 | 分類號： | C23C14/50;G01N1/28 |
| 代理公司： | 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 陳建和 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 適用于 真空 沉積 樣品 襯底 | ||
【權利要求書】：
1.適用于高真空下的團簇沉積樣品襯底座，其特征是將襯底座設計成一個菱柱結構，菱柱橫截面為正六邊形，菱柱選用材料為無氧銅材質，菱柱中間為空心，加熱源放置在菱柱的內部；在菱柱結構的每個柱面上開設一個大圓孔和四個螺絲孔，樣品通過四個開在柱面角落的螺絲孔固定，樣品的中心置于大圓孔中心。
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