[實用新型]標靶影像對位裝置及具有該裝置的曝光機

有效

• 申請號: 201520886723.6
• 申請日: 2015-11-09
• 公開（公告）號: CN205193432U
• 公開（公告）日: 2016-04-27
• 發明（設計）人: 張鴻明
• 申請（專利權）人: 川寶科技股份有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京市浩天知識產權代理事務所(普通合伙) 11276
• 代理人: 劉云貴;王東

技術領域

本實用新型涉及一種標靶影像對位裝置及具有該裝置的曝光機，該曝光 機用于對基板進行曝光，該標靶影像對位裝置用于在該基板進行曝光之前， 檢測基板與底片是否正確對位。

背景技術

請參照圖1及圖2，其示為現有的雙面曝光機的示意圖，該雙面曝光機 具有一標靶影像對位裝置100、兩個曝光框單元200A,200B及一曝光裝置 300，該兩個曝光框單元200A,200B交替地往返移載于一對位位置與一曝光 位置，各該曝光框單元200A,200B先于該對位位置上進行對位程序，以確保 各該曝光框單元200A,200B中的底片與基板正確對準后，再輸送至該曝光位 置，該曝光裝置300設置于該曝光位置上方，用于對各該曝光框單元 200A,200B曝光。

現有的雙面曝光機可具有一個或多個標靶對位裝置，該標靶影像對位裝 置100設置于該雙面曝光機上并位于該對位位置的正上方，其包括一CCD 攝影機110、一光源模塊120及一升降模塊130，該CCD攝影機110的鏡頭 正對該對位位置以供對該對位位置上的曝光框單元200A或200B取像，該 光源模塊120設置于該升降模塊130底端。

如圖1所示，當需更換底片或取放基板時，必須將各該曝光框單元 200A,200B的上框體向上掀起，此時，該升降模塊130為一收起狀態，使該 光源模塊120遠離該對位位置一段距離，以供各該曝光框單元200A,200B 的上框體有空間能向上掀起；如圖2所示，在對位程序中，該升降模塊130 通過馬達及皮帶輪驅動而下降，使該光源模塊120接近該對位位置上的曝光 框單元200A或200B，以提供該CCD攝影機110取像時需要的照明亮度。

為了使各該曝光框單元200A,200B的上框體能向上掀起的空間足夠，因 此該光源模塊120必須通過該升降模塊130驅動足夠的升降行程，然而，該 光學模塊120在升降的過程中容易產生晃動及不穩，導致對于精確度有不利 的影響，再者，每次在對位程序中，需等待該光學模塊120下降至定點后， 才能進行取像，因而造成對位時間長的缺點，更降低了生產效率。另一方面， 該標靶影像對位裝置100設置于該對位位置的正上方，故該雙面曝光機具有 不小的設備高度，占用了不少的廠房空間且不利搬運。

實用新型內容

為改善現有雙面曝光機所存在的光學檢測精確度不佳、對為過程時間 長、生產效率低及設備占空間等缺點，本實用新型提出了一種標靶影像對位 裝置及具有該裝置的曝光機。

為達上述目的及其他目的，本實用新型公開了一種標靶影像對位裝置， 應用于曝光機以供進行基板與底片的標靶間的對位程序，該曝光機包含承載 基板與底片的兩個曝光框單元，該兩個曝光框單元沿第一方向交替地往返移 載于對位位置與曝光位置，該標靶影像對位裝置包含二維移載單元及光學檢 測單元，該二維移載單元包括第一滑軌、第一滑座、第二滑軌及第二滑座， 該第一滑軌用于設置于該曝光機上且位于該對位位置的鄰側，并以其滑動方 向平行于該第一方向的方式配置；該第一滑座可移動地設置于該第一滑軌上 以被驅動滑動；該第二滑軌與該第一滑座結合并以其滑動方向平行于第二方 向且延伸至該對位位置上方的方式配置，該第二方向垂直該第一方向；該第 二滑座可移動地設置于該第二滑軌上以被驅動滑動；該光學檢測單元設置于 該第二滑座上，該光學檢測單元具有光源組及攝影機，在對位程序期間，該 光學檢測單元與該第二滑座之間的相對位置為固定。

上述的標靶影像對位裝置，其中進一步包含頂升單元，該頂升單元用于 設置于該曝光機的該對位位置的下方，以供抬升位于該對位位置的曝光框單 元，而使各該曝光框單元與該光學檢測單元之間相距有默認距離。

上述的標靶影像對位裝置，其中進一步包含高度微調座，該高度微調座 設置于該第二滑座上并承載該攝影機，用于調整該攝影機相對于位在該對位 位置上的曝光框單元的位置。

上述的標靶影像對位裝置，其中該光學檢測單元具有雷射模塊，用于對 準該攝影機的視野范圍內發射激光束。

為達上述目的及其他目的，本實用新型還公開了一種曝光機包含兩個曝 光框單元、上述的標靶影像對位裝置及曝光裝置，該兩個曝光框單元沿第一 方向交替地往返移載于對位位置與曝光位置；該曝光裝置設置于該曝光位置 上方，用于對各該曝光框單元曝光。