[實用新型]濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內部加熱器

有效

• 申請號: 201520876503.5
• 申請日: 2015-11-03
• 公開（公告）號: CN205099745U
• 公開（公告）日: 2016-03-23
• 發明（設計）人: 曹興民;莊志杰
• 申請（專利權）人: 基邁克材料科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 郭春遠

技術領域

本實用新型涉及濺射鍍膜設備的靶材輔助加熱裝置結構改進技術，尤其是濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內部加熱器。

背景技術

由于電子薄膜、光學薄膜、光電薄膜、磁性薄膜和超導薄膜等在高新技術和工業上的大規模開發應用，靶材已經逐漸發展成為一個專業化產業，隨著薄膜技術的不斷發展，靶材市場將進一步擴大。

濺射是制備薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用,因此,對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加。近年來,隨著我國電子信息產業飛速發展,在集成電路、光盤及顯示器等領域,中國已逐漸成為了世界上薄膜靶材的最大需求地區之一。

隨著技術的進步，靶材的設計逐漸由平面靶材向旋轉靶材過渡，因為旋轉靶材的材料利用率可以達到80％，而一般平面靶材利用率只能達到30％；旋轉耙材在使用過程中不斷旋轉，耙材表面可以保持光滑，不會產生“結瘤”俗稱“靶材中毒”，可以保障成膜的均勻性，減少缺陷，提高成品率。期望通過使用旋轉靶材達到降低成本、提高膜層質量和提高成品率的目的。

部分旋轉靶材采用貼合的方法制備，把靶材分節綁定在金屬襯管上，以提高導熱性能和強度。目前旋轉靶材綁定的工藝是，把單節靶管綁定在金屬襯管上，靶管和金屬襯管之間通過低熔點的金屬焊料粘接。在綁定的過程中，需要對金屬襯管和靶管進行預熱，然后把低熔點的金屬焊料填充到靶管和金屬襯管的縫隙里。綁定的質量直接關系到靶材濺射過程中的導熱效果，若導熱不好，金屬焊料將會熔化流出或者靶管會局部熔化或開裂。在綁定工藝過程中，靶管和襯管加熱的均勻性和穩定性對貼合質量具有重要的影響。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內部加熱器，以開發一種旋轉靶材綁定的內部加熱器，達到加熱快速均勻，而且溫度穩定的效果。

本實用新型的目的將通過以下技術措施來實現：包括低熔點金屬填料、加熱管、外管和內管；外管內部安裝內管，而且在內管之中安裝加熱管，在外管和內管之間有低熔點金屬填料。

尤其是，加熱管外端伸出在外管外側，而且，加熱管外端面上安裝有電源接線柱。

尤其是，在外管上安裝測溫器，測溫器的內段伸入外管和內管之間的低熔點金屬填料中。

尤其是，外管和內管為等高的同軸圓管，而且，在外管和內管的上下端面分別固定有外徑與外管相同的圓盤。

尤其是，加熱管高度不小于外管高度的1/2。

尤其是，測溫器高度不小于外管高度的1/5。

本實用新型的優點和效果：通過加熱元件加熱低熔點金屬，而且，將低熔點金屬作為導熱介質，同時具有加熱均勻，溫升穩定，而且熱輻射和傳導面積大的特點，并使之進一步的實現對所綁定靶材進行更為優良的加熱。加熱快速均勻，而且溫度穩定，測溫精確，使用方便。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例1內部結構示意圖。

圖2為本實用新型實施例1外形結構示意圖。

附圖標記包括：低熔點金屬填料1、加熱管2、電源接線柱3、測溫器4、外管5、內管6。

具體實施方式

本實用新型原理在于，通過加熱元件加熱低熔點金屬，而且，將低熔點金屬作為導熱介質，同時具有加熱均勻，溫升穩定，而且熱輻射和傳導面積大的特點，并使之進一步的實現對所綁定靶材進行更為優良的加熱。

本實用新型包括：低熔點金屬填料1、加熱管2、外管5和內管6。

下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。

實施例1：如附圖1和2所示，外管5內部安裝內管6，而且在內管6之中安裝加熱管2，在外管5和內管6之間有低熔點金屬填料1。

前述中，加熱管2外端伸出在外管5外側，而且，加熱管2外端面上安裝有電源接線柱3。

前述中，在外管5上安裝測溫器4，測溫器4的內段伸入外管5和內管6之間的低熔點金屬填料1中。

前述中，外管5和內管6為等高的同軸圓管，而且，在外管5和內管6的上下端面分別固定有外徑與外管5相同的圓盤。

前述中，外管5外形是圓柱體，使用時可以放在金屬襯管內部進行加熱；

前述中，外管5和內管6為同軸鋼管。

前述中，加熱管2高度不小于外管5高度的1/2。