[實用新型]一種磁性靶材

有效

• 申請號: 201520855329.6
• 申請日: 2015-10-29
• 公開（公告）號: CN205062168U
• 公開（公告）日: 2016-03-02
• 發明（設計）人: 張瑞麗;任瑞
• 申請（專利權）人: 杭州立昂微電子股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 杭州宇信知識產權代理事務所(普通合伙) 33231
• 代理人: 張宇娟

1.一種磁性靶材，其特征在于：所述磁性靶材能夠與非磁性靶材共用磁控濺射系統，所述共用的磁控濺射系統包括靶座，所述靶座包括磁鐵；

所述非磁性靶材包括濺射靶、以及用以支撐濺射靶的背板；濺射靶為扁圓柱形，包括呈圓形平面的濺射面及與濺射面相對的濺射靶背面；背板包括支撐濺射靶的主體部分和主要起固定作用的外沿部分，背板通過焊接面與濺射靶粘貼成一體，與焊接面相對的背板內壁形成冷卻面，冷卻面為圓形平面；

所述磁性靶材由所述非磁性靶材進行如下形狀變化形成：

1)減薄濺射靶；以及

2)將濺射靶的濺射面及其背面由平面改成球面，且濺射面與濺射靶的背面完全平行，同時，背板主體部分的焊接面由非磁性靶材的平面改為內球面，且與濺射靶的背面完全貼合。

2.根據權利要求1所述的一種磁性靶材，其特征在于：所述非磁性靶材的總高度為46.10～48.60m，其濺射靶的厚度為2.9～3.1mm，背板外沿部分高度為3.92～24.72mm，冷卻面到背板外沿部分的底部的垂直距離為22.03～22.43mm。

3.根據權利要求2所述的一種磁性靶材，其特征在于：所述形狀變化1）中減薄濺射靶的減薄尺寸為0.4～0.6mm；2）中形成球面后的濺射面的內徑為1026～1411mm。

4.根據權利要求2所述的一種磁性靶材，其特征在于：所述形狀變化還包括3）從背板主體部分的冷卻面方向減薄背板；以及4）將背板外沿部分減薄。

5.根據權利要求4所述的一種磁性靶材，其特征在于：所述形狀變化1）中減薄濺射靶的減薄尺寸為0.4～0.6mm；2）中形成球面后的濺射面的內徑為2210～2336mm；3）中減薄背板的減薄厚度為10.75～10.79mm；4）中背板外沿部分減薄5.90～6.02mm。

6.根據權利要求3或5所述的一種磁性靶材，其特征在于：使用與所述非磁性靶材共用的磁控濺射系統進行濺射，所述磁性靶材濺射在基材上的厚度均勻性小于2%。

7.根據權利要求6所述的一種磁性靶材，其特征在于：所述非磁性靶材的濺射靶為鋁靶；所述磁性靶材的濺射靶為NiPt合金靶或Ni金屬靶。