[實用新型]一種瓷磚淋釉裝置

有效

• 申請號: 201520853049.1
• 申請日: 2015-10-30
• 公開（公告）號: CN205115311U
• 公開（公告）日: 2016-03-30
• 發明（設計）人: 李清遠;康公海
• 申請（專利權）人: 廣東家美陶瓷有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 羅曉林

技術領域

本實用新型涉及瓷磚加工技術領域，具體地說是一種瓷磚淋釉裝置。

背景技術

釉面磚是裝修中最常見的磚種，由于色彩圖案豐富，而且防污能力強，因此被廣泛使用于墻面和地面裝修。釉面磚在制作過程中，施釉是其中最重要的步驟之一，施釉的工藝質量能夠最終決定瓷磚的成品質量。目前普遍應用的施釉方法有三種：噴釉、浸釉和淋釉。由于噴釉容易施釉不均，浸釉又容易導致釉層過厚，因此淋釉是普遍優選的實施方式。現有市面上的淋釉機種類繁多，多效仿國外技術，結構復雜，且淋釉質量參差不齊。如何設計一種結構簡單且淋釉質量穩定的淋釉裝置，已是業內生產領域的共同需求。

目前的淋釉裝置的淋釉展盤一般都采用鐘罩式結構，而且通常都包含上鐘罩和下鐘罩，通過至少兩層的結構使釉淋下，此種結構，會導致清洗鐘罩的時候較為困難，一旦清洗鐘罩的時間過長，很可能造成空窯情況，從而導致嚴重的生產事故。

發明內容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種瓷磚淋釉裝置，淋釉方便，容易對鐘罩清洗，有效提高產品質量。

為了解決上述技術問題，本實用新型采取以下技術方案：

一種瓷磚淋釉裝置，包括原釉桶和淋釉鐘罩，淋釉鐘罩上設有釉料倉，該釉料倉下端出口指向淋釉鐘罩的頂端，還包括相互連通的振動篩和儲釉桶，儲釉桶內裝設有攪拌抽釉泵，該攪拌抽釉泵上設有進釉管，該進釉管與釉料倉連接，淋釉鐘罩的頂端面具有一凹陷腔位，釉料倉的下端出口指向該凹陷腔位，振動篩與儲釉桶連通。

所述淋釉鐘罩頂端的凹陷腔位的上端平滑傾斜至該淋釉鐘罩的邊沿。

所述凹陷腔位的上端開口側邊設有向上凸起高于淋釉鐘罩表面的凸條邊沿。

所述凸條邊沿呈弧形。

所述釉料倉的下端出口裝接有調節閥，該調節閥裝接有異徑管。

所述釉料倉呈漏斗形。

所述振動篩包括振動盤及與該振動盤連通的出料槽，該出料槽延伸至儲釉桶內，振動盤底部裝接有振動驅動裝置。

所述釉料倉上部還裝接有回收管，該回收管連接至振動篩。

本實用新型淋釉方便，淋釉均勻，有效提高產品質量，而且自動化程度高，有效減少工人的勞動強度，提高釉料的利用率，并且對于鐘罩只設置一層，即只有一個鐘罩，方便對鐘罩的清洗，從而減少出現空窯的機率，保證正常生產。

附圖說明

附圖1為本實用新型結構示意圖；

附圖2為本實用新型中鐘罩的立體結構示意圖。

具體實施方式

為了便于本領域技術人員的理解，下面結合附圖對本實用新型作進一步的描述。

如附圖1和2所示，本實用新型揭示了一種瓷磚淋釉裝置，包括原釉桶1和淋釉鐘罩10，淋釉鐘罩10上設有釉料倉7，該釉料倉7下端出口指向淋釉鐘罩10的頂端，還包括相互連通的振動篩2和儲釉桶4，儲釉桶4內裝設有攪拌抽釉泵11，該攪拌抽釉泵11上設有進釉管5，該進釉管5與釉料倉7連接，淋釉鐘罩10的頂端面具有一凹陷腔位11，釉料倉7的下端出口指向該凹陷腔位11，振動篩2與儲釉桶4連通。振動篩2包括振動盤及與該振動盤連通的出料槽3，該出料槽3延伸至儲釉桶4內，振動盤底部裝接有振動驅動裝置，該振動驅動裝置只要能夠滿足使振動盤振動即可。

淋釉鐘罩10頂端的凹陷腔位11的上端平滑傾斜至該淋釉鐘罩的邊沿。凹陷腔位11的上端開口側邊設有向上凸起高于淋釉鐘罩表面的凸條邊沿12。凸條邊沿12呈弧形。該凹陷腔位的深度可根據實際需要進行設置，在此并無特定限制。

此外，釉料倉7的下端出口裝接有調節閥8，該調節閥8裝接有異徑管9，采用異徑管9能夠更好的對出料進行控制，使釉料更加均勻。釉料倉呈漏斗形。

此外，在釉料倉7上部還裝接有回收管6，該回收管6連接至振動篩2。通過該回收管6的設置，使得當釉料倉進料過多時，多余的釉料能夠及時的從回收管再次送回至振動篩中，避免釉料直接從釉料倉中溢出而導致浪費。

本實用新型在實際應用中，在淋釉鐘罩下方設置有瓷磚的傳輸帶，瓷磚在該傳輸帶上傳輸。將原材料釉料送至原釉桶中，通過管路輸送至振動篩中進行振動處理，然后釉料經振動篩的出料槽送至儲釉桶中，經攪拌抽釉泵抽至釉料倉內。通過調節閥即可調節釉料的出料大小。釉料最后經異徑管流至凹陷腔位內，隨著釉料的不斷排出，當凹陷腔位內填滿釉料時即溢出，釉料就從鐘罩的表面滑下到瓷磚表面，實現對瓷磚的淋釉操作。

需要說明的是，以上所述并非是對本實用新型技術方案的限定，在不脫離本實用新型的創造構思的前提下，任何顯而易見的替換均在本實用新型的保護范圍之內。