[實(shí)用新型]掩膜板及構(gòu)圖工藝系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520835309.2
• 申請日: 2015-10-26
• 公開（公告）號: CN205121119U
• 公開（公告）日: 2016-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬國靖;徐長健;王丹;任錦宇
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: G02F1/1339
• 分類號: G02F1/1339;G02F1/133
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 李相雨

1.一種掩膜板，其特征在于，包括控制單元和液晶盒；

所述控制單元用于根據(jù)控制指令控制所述液晶盒呈現(xiàn)預(yù)設(shè)的掩膜圖案；

所述控制指令為根據(jù)所述預(yù)設(shè)的掩膜圖案確定的控制指令。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板設(shè)置有行列排布的多個(gè)掩膜子區(qū)，每個(gè)掩膜子區(qū)均設(shè)置有對應(yīng)的控制開關(guān)；

所述控制開關(guān)用于根據(jù)所述控制指令控制對應(yīng)的掩膜子區(qū)的液晶的透光狀態(tài)，使得所述液晶盒呈現(xiàn)所述預(yù)設(shè)的掩膜圖案。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述透光狀態(tài)包括全透光、不透光和灰度透光。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述控制開關(guān)包括薄膜晶體管，所述薄膜晶體管根據(jù)所述控制指令控制對應(yīng)的掩膜子區(qū)的液晶的透光狀態(tài)為全透光、不透光或灰度透光。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜子區(qū)的液晶為聚合物分散液晶。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述控制開關(guān)包括薄膜晶體管，所述薄膜晶體管根據(jù)所述控制指令控制對應(yīng)的掩膜子區(qū)的聚合物分散液晶的透光狀態(tài)為全透光或不透光。

7.根據(jù)權(quán)利要求4或6所述的掩膜板，其特征在于，所述液晶盒還包括像素電極、數(shù)據(jù)線和柵線，所述薄膜晶體管包括源極、漏極和柵極，所述源極和漏極中的一個(gè)與所述數(shù)據(jù)線相連，另一個(gè)與所述像素電極相連，所述柵極與所述柵線相連。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述控制單元周期性掃描驅(qū)動所述薄膜晶體管，使得所述薄膜晶體管控制對應(yīng)的掩膜子區(qū)的液晶的透光狀態(tài)在預(yù)設(shè)時(shí)間段內(nèi)保持不變。

9.一種用于基板的構(gòu)圖工藝系統(tǒng)，其特征在于，包括光源裝置以及如權(quán)利要求1～8任一項(xiàng)所述的掩膜板；其中，所述預(yù)設(shè)的掩膜圖案為構(gòu)圖工藝圖案。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述構(gòu)圖工藝圖案為封框膠圖案。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述掩膜板包含行列設(shè)置的多個(gè)掩膜子區(qū)，至少兩個(gè)掩膜子區(qū)組成一個(gè)掩膜區(qū)塊；

所述控制單元用于根據(jù)控制指令控制所述掩膜區(qū)塊以使所述掩膜板呈現(xiàn)所述封框膠圖案；

所述控制指令為根據(jù)所述預(yù)設(shè)的封框膠圖案確定的控制指令。