[實用新型]一種大培養(yǎng)皿常壓低溫等離子體處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520813613.7
• 申請日: 2015-10-21
• 公開（公告）號: CN205115353U
• 公開（公告）日: 2016-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 卞杰;萬良淏
• 申請（專利權(quán)）人: 南京蘇曼等離子科技有限公司
• 主分類號: C08J7/12
• 分類號: C08J7/12
• 代理公司: 南京鐘山專利代理有限公司 32252
• 代理人: 戴朝榮

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型公開了一種大培養(yǎng)皿常壓低溫等離子體處理裝置，涉及等離子體實驗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

等離子體是一種高能量的物質(zhì)聚集態(tài)，其中含有大量的電子、離子、激發(fā)態(tài)的原子、分子、光子和自由基等活性粒子。利用等離子體對材料進行處理可引起材料表面的物理變化（如刻蝕、解吸、濺射、注入、激發(fā)和電離等）和化學(xué)變化（如氧化、分解、交聯(lián)、聚合和接枝等），以達到改變材料表面特性（包括親水性、疏水性、粘合性、阻燃性、防腐性、防靜電性以及生物適應(yīng)性）的目的。低溫等離子體的電子能量一般約為幾個到幾十個電子伏特，高于聚合物中常見的化學(xué)鍵能。因此，等離子體可以有足夠的能量引起聚合物內(nèi)的各種化學(xué)鍵發(fā)生斷裂或重組。表現(xiàn)在大分子的降解，材料表面和外來氣體、單體在等離子體作用下發(fā)生反應(yīng)。近年來，等離子體表面改性技術(shù)在醫(yī)用材料改性上的應(yīng)用已成為等離子體技術(shù)的一個研究熱點。低溫等離子處理分為等離子體聚合和等離子體表面處理。等離子體聚合是利用放電把有機類氣態(tài)單體等離子化，使其產(chǎn)生各類活性物質(zhì)，由這些活性物質(zhì)之間或活性物質(zhì)與單體之問進行加成反應(yīng)形成聚合膜。而等離子體表面處理是利用非聚合性無機氣體(Ar2、N2、H2、O2等)的等離子體進行表面反應(yīng)，通過表面反應(yīng)在表面引入特定官能團，產(chǎn)生表面侵蝕，形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)層或生成表面自由基，在經(jīng)等離子體活化而成的表面自由基位置，能進一步反應(yīng)產(chǎn)生特定官能團，如氫過氧化物。較為普遍的是在高分子材料表面導(dǎo)人含氧官能團。如-OH、-OOH等。還有人在材料表面引入了胺基。在材料表面生成自由基或引入官能團后，就可與其他高分子單體反應(yīng)進行接枝(即材料表面形成的自由基或官能團引發(fā)單體分子與之發(fā)生作用)或聚合，或直接在材料表面固定生物活性分子。在低溫等離子中由于存在離子和自由電子、自由基，其提供了常規(guī)化學(xué)反應(yīng)器中所沒有的化學(xué)反應(yīng)條件，既能使原氣體中的分子分解，又可以使許多有機物單體產(chǎn)生聚合反應(yīng)。

合成高分子材料無法完全滿足作為生物醫(yī)用材料所需要的生物相容性和高度的生物功能要求。為解決這些問題，采用低溫等離子體表面改性技術(shù)以其特有的優(yōu)點在生物醫(yī)用材料中已經(jīng)被廣泛的應(yīng)用。通過等離子體處理后，能夠在高分子材料表面固定生物活性分子，達到作為生物醫(yī)用材料的目的。

現(xiàn)有技術(shù)中，在常壓空氣中很難獲得均勻的（大面積的）低溫等離子體，并且現(xiàn)有技術(shù)中培養(yǎng)皿的表面處理后親水性不足，且生產(chǎn)效率低下。

實用新型內(nèi)容

本實用新型所要解決的技術(shù)問題是：針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種大培養(yǎng)皿常壓低溫等離子體處理裝置，采用差分饋電方式的介質(zhì)阻擋放電低溫等離子體裝置。

本實用新型為解決上述技術(shù)問題采用以下技術(shù)方案：

一種大培養(yǎng)皿常壓低溫等離子體處理裝置，包括柜體，還包括設(shè)置于柜體內(nèi)部的低溫等離子電源、電路配電柜、步進電機、低溫等離子體上電極和下電極、設(shè)置觸摸屏、低溫等離子體電極基臺和冷卻風(fēng)扇，還包括設(shè)置于柜體后部的集風(fēng)金屬罩，所述集風(fēng)金屬罩內(nèi)設(shè)置有金屬管、排氣管和風(fēng)機，其中，

所述下電極基臺由配置的金屬基模和鋁制齒塊構(gòu)成，所述金屬基模與大培養(yǎng)皿的形狀相適應(yīng)，所述鋁制齒塊與金屬基模固定連接，所述冷卻風(fēng)扇設(shè)置于金屬基模的下方；

所述低溫等離子體上電極與步進電機相連接；

所述設(shè)置觸摸屏分別與低溫等離子電源、步進電機、冷卻風(fēng)扇相連接，進行人機交互控制；

所述低溫等離子體電源通過低溫等離子體上電極和下電極，使其中間區(qū)域產(chǎn)生低溫等離子體放電區(qū)；

所述集風(fēng)金屬罩內(nèi)，風(fēng)機向柜體外部抽風(fēng)，排出柜體內(nèi)反應(yīng)產(chǎn)生的臭氧并進一步通過金屬管和排氣管對上、下電極進行外部冷卻。

作為本實用新型的進一步優(yōu)選方案，所述低溫等離子電源為差分激勵電源。

作為本實用新型的進一步優(yōu)選方案，所述低溫等離子體上、下電極為一對平行平板式電極。

作為本實用新型的進一步優(yōu)選方案，所述低溫等離子體上、下電極為金屬板或者金屬網(wǎng)，且電極表面覆蓋陶瓷介質(zhì)或者石英介質(zhì)。

本實用新型采用以上技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下技術(shù)效果：本實用新型操作簡便、可控性強、處理成本低；可根據(jù)處理試件的幅面尺寸及處理效果要求，靈活調(diào)整裝置尺寸及處理工藝，且在常壓空氣中處理，處理成本低廉、效率高。

附圖說明

圖1是本實用新型中，大培養(yǎng)皿常壓等離子體處理裝置的立體結(jié)構(gòu)前視圖；

圖2是本實用新型中，大培養(yǎng)皿常壓等離子體處理裝置的立體結(jié)構(gòu)后視圖；