[實用新型]金相磨制深度間接確定裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520807848.5 | 申請日: | 2015-10-16 |
| 公開(公告)號: | CN205103171U | 公開(公告)日: | 2016-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉洋;韓斌;汪榮;魏兵;楊奕 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢鋼鐵(集團(tuán))公司 |
| 主分類號: | G01N21/84 | 分類號: | G01N21/84 |
| 代理公司: | 武漢開元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42104 | 代理人: | 胡鎮(zhèn)西 |
| 地址: | 430080 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金相 磨制 深度 間接 確定 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及金相檢驗分析技術(shù)領(lǐng)域,具體地指一種金相磨制深度間接確定裝置。
背景技術(shù)
金相分析是一種常用的觀察分析材料微觀組織的手段。金相試樣制備一般要經(jīng)過以下幾個步驟:備樣→鑲嵌→磨光→拋光→腐蝕。在某些特定條件下,為得到系統(tǒng)的金相信息,需要分析試樣不同磨制深度的組織形貌。為實現(xiàn)此目的,授權(quán)公告號為CN203732342U的實用新型提供一種可精確研磨金相試樣厚度的夾具。它由杯狀基座、定位托盤、固定螺絲、頂升螺桿組成,通過柱形孔內(nèi)壁刻度可精確調(diào)整定位需要磨制掉的試樣厚度。這種方法需定制精度較高的零件制成相應(yīng)的夾具,一般在通常情況下難以實現(xiàn)。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的就是要克服上述困難,提供一種金相磨制深度間接確定裝置,該裝置能夠得到系統(tǒng)的金相信息,分析試樣表面及不同磨制深度的組織形貌。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型所設(shè)計的金相磨制深度間接確定裝置,包括樹脂塊、鋼制支撐墊塊、軸承滾珠和待測試樣,其特征在于:所述鋼制支撐墊塊和待測試樣分別與軸承滾珠靠接,且共同鑲嵌在樹脂塊內(nèi),所述鋼制支撐墊塊底面、軸承滾珠底部切面和待測試樣底面在同一平面上。
進(jìn)一步地,所述軸承滾珠為鋼制滾珠,直徑為2~5mm,公差為±0.005mm。具體地,所述軸承滾珠直徑為4mm,公差為±0.005mm。
進(jìn)一步地,所述鋼制支撐墊塊和待測試樣分別通過502粘合劑與軸承滾珠緊密粘合靠接。
更進(jìn)一步地,所述鋼制支撐墊塊和待測試樣分別靠接在軸承滾珠兩側(cè)。
使用時,金相鑲嵌試樣經(jīng)磨制后,鋼制支撐墊塊、軸承滾珠、試樣都將形成磨制面,且在均勻磨制條件下磨制深度一致。在金相顯微鏡下,測量軸承滾珠形成的磨面半徑L,通過下述公式可以計算軸承滾珠的磨制深度D:
式中Dn為經(jīng)n次后的總磨制深度,R為軸承滾珠的半徑,Ln為經(jīng)n次磨制后軸承滾珠形成的磨面半徑。第n次的磨制深度可以通過下式計算:
dn=Dn-Dn-1
根據(jù)軸承滾珠與試樣在均勻磨制條件下享有一致的磨制深度的特點,可以間接的推斷出試樣的磨制深度。
本實用新型的優(yōu)點在于:所設(shè)計的裝置能夠間接確定金相磨制深度,得到系統(tǒng)的金相信息,分析試樣表面及不同磨制深度的組織形貌。本實用新型豐富了金相研究手段,提高了科研效率。同時,該裝置具有構(gòu)造簡單、投資費用低、運行維護(hù)方便的特點。
附圖說明
圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實用新型的俯視圖。
圖3為本實用新型的軸承滾珠磨制深度計算示意圖。
圖中:樹脂1、鋼制支撐墊塊2、軸承滾珠3、待測試樣4。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述:
如圖1和圖2所示金相磨制深度間接確定裝置,包括樹脂塊1、鋼制支撐墊塊2、軸承滾珠3和待測試樣4,其特征在于:所述鋼制支撐墊塊2和待測試樣4分別與軸承滾珠3靠接,且共同鑲嵌在樹脂塊1內(nèi),所述鋼制支撐墊塊2底面、軸承滾珠3底部切面和待測試樣4底面在同一平面上。
進(jìn)一步地,所述軸承滾珠3為鋼制滾珠,直徑為2~5mm,公差為±0.005mm。具體地,所述軸承滾珠3直徑為4mm,公差為±0.005mm。
進(jìn)一步地,所述鋼制支撐墊塊2和待測試樣4分別通過502粘合劑與軸承滾珠3緊密粘合靠接。
更進(jìn)一步地,所述鋼制支撐墊塊2和待測試樣4分別靠接在軸承滾珠3兩側(cè)。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





