[實用新型]一種多級磨削鉸珩頭

有效

• 申請號: 201520806951.8
• 申請日: 2015-10-19
• 公開（公告）號: CN205074913U
• 公開（公告）日: 2016-03-09
• 發明（設計）人: 麥學東;徐建華;麥瑞纓;麥學東
• 申請（專利權）人: 銀川市恒益達機械有限公司
• 主分類號: B24B33/08
• 分類號: B24B33/08
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 畢強

技術領域

本實用新型涉及珩磨技術領域，尤其是涉及一種多級磨削鉸珩頭。

背景技術

目前，在內孔精珩磨加工方面，通常采用單錐面支撐油石座的普通珩磨頭和雙錐面支撐油石座的單進給或雙進給珩磨頭。這些珩磨頭對于連續內孔的加工均可達到較高的尺寸精度和較理想的粗糙度，不足之處是普通珩磨頭在珩磨內孔時只能保證尺寸精度而無法保證位置精度，同時因其自身結構的原因無法制作成較長尺寸，也難以保證同時珩磨多個同軸孔時所需的面接觸。所以，對于大間距、間斷排布的多個同軸同徑內孔如發動機曲軸孔，因不同孔之間客觀上存在著不同軸現象，如果仍采用普通珩磨頭珩磨同軸多孔時會因為各孔的磨削幾率不同而無法消除不同軸現象，而且當普通珩磨頭珩磨不同的孔時會產生卡滯現象，甚至無法進行正常珩磨加工。鑒于此，對于這種間斷的同軸多孔，一般先采用鉸刀進行鉸孔，在去除大部分加工余量的同時提高形位精度如同軸度、圓度和圓柱度，再采用珩磨頭進行珩磨，以獲得理想的尺寸精度、粗糙度精度和網紋參數，但是采用這種方法加工周期較長且加工效率較低。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種多級磨削鉸珩頭，以解決現有技術中存在的傳統珩磨頭無法保證形位精度和難以對大間距、間斷排布的多個同軸同徑內孔進行珩磨加工的技術問題。

本實用新型提供的一種多級磨削鉸珩頭，包括磨頭體、前導向組和后導向組和至少三個磨削組；所述前導向組設置在所述磨頭體的前端，所述后導向組設置在所述磨頭體的后端，所述至少三個磨削組設置在所述磨頭體上，且位于所述前導向組和所述后導向組之間；所述至少三個磨削組依次沿所述磨頭體的軸向分布；所述前導向組包括多個前導向護板，多個所述前導向護板沿所述磨頭體的周向均勻分布；所述后導向組包括多個后導向護板，多個所述后導向護板沿所述磨頭體的周向均勻分布；所述磨削組包括多個油石座以及與所述多個油石座一一對應的多個油石條，所述油石條固定在所述油石座上；所述多個油石座沿所述磨頭體的周向均勻分布，且所述油石座能夠沿所述磨頭體的徑向漲縮。

進一步地，還包括錐體，所述錐體穿設在所述磨頭體的內腔中，且所述錐體能夠沿所述磨頭體的軸向方向做往復運動，用于使所述油石座沿所述磨頭體的徑向漲縮。

進一步地，所述錐體的軸向方向上設置有至少三個圓錐面，所述油石座上設置有與所述圓錐面相對應的傾斜面。

進一步地，所述油石座的兩個相對的端部的外表面設置有緊固凹槽，緊固凹槽中設置有緊固彈簧，用于當所述油石座沿所述磨頭體的徑向漲出后，使所述油石座縮回。

進一步地，所述磨頭體的內腔中安裝有恢復彈簧，用于當所述錐體向前運動而使所述油石座沿所述磨頭體的徑向漲出后，使所述錐體向后運動。

進一步地，所述磨頭體的前端的內腔中安裝有彈簧固定軸，所述恢復彈簧設置在所述彈簧固定軸和所述錐體之間。

進一步地，所述磨頭體的前端安裝有導向套。

進一步地，所述磨頭體的后端的內腔中設置有調整套，用于驅動所述錐體向前運動。

進一步地，所述錐體的軸向方向上設置有限位凹槽，所述磨頭體上設置有限位通孔，所述限位通孔中設置有與所述限位凹槽相對應的限位螺釘，用于限制所述錐體在所述磨頭體的軸向方向上移動的距離。

進一步地，所述前導向護板和所述后導向護板的材料均為硬質合金。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果為：

本實用新型提供的多級磨削鉸珩頭，具有鉸刀與珩磨頭合二為一的整體性功能，在對大間距、間斷排布的多個同軸同徑內孔如發動機曲軸孔進行精密加工時，由于前導向護板具有鉸刀的功能，可先利用前導向護板進行鉸孔，在去除大部分加工余量的同時保證了不同孔間的同軸度、圓度和圓柱度要求，再以前導向護板為導向利用漲出的油石條對多孔進行珩磨加工，可保證不同孔達到相同的尺寸精度、粗糙度精度和網紋參數要求，特別是在此加工過程中只需一次裝卡，在一個工作循環中一次性地完成鉸孔和珩孔兩個工藝過程，大大提高了加工效率，降低了勞動強度。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型具體實施方式或現有技術中的技術方案，下面將對具體實施方式或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本實用新型的一些實施方式，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型實施例一提供的多級磨削鉸珩頭的結構示意圖；

圖2為圖1中C處的局部放大示意圖；

圖3為圖1中D處的局部放大示意圖；