[實用新型]一種新型加熱盤裝置有效
| 申請號： | 201520797612.8 | 申請日： | 2015-10-14 |
| 公開（公告）號： | CN205077143U | 公開（公告）日： | 2016-03-09 |
| 發明（設計）人： | 續震;林亞男 | 申請（專利權）人： | 沈陽拓荊科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/46 | 分類號： | C23C16/46 |
| 代理公司： | 沈陽維特專利商標事務所(普通合伙) 21229 | 代理人： | 甄玉荃;陳福昌 |
| 地址： | 110179 遼寧省*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 新型 加熱 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種新型加熱盤裝置，其特征在于，該加熱盤包括加熱盤本體，水冷塊，金屬墊圈,密封圈,金屬墊圈安裝槽及密封圈安裝槽；所述水冷塊內部設有金屬墊圈安裝槽與密封圈安裝槽，金屬墊圈安裝在金屬墊圈安裝槽內并鑲嵌在所述加熱盤本體的底部，密封圈安裝在密封圈安裝槽內，水冷塊與加熱盤本體通過螺栓連接固定。
2.如權利要求1所述的一種新型加熱盤裝置，其特征在于,所述金屬墊圈為空心螺旋形狀。
3.如權利要求1所述的一種新型加熱盤裝置，其特征在于,所述密封圈為橡膠密封圈。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
