[實用新型]一種調整渦流場均勻度的磁性組件及電磁爐

有效

• 申請號: 201520797225.4
• 申請日: 2015-10-14
• 公開（公告）號: CN205124024U
• 公開（公告）日: 2016-03-30
• 發明（設計）人: 李晨杰;朱永哲;陳定武
• 申請（專利權）人: 珠海格力電器股份有限公司
• 主分類號: H05B6/02
• 分類號: H05B6/02;F24C7/06
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 張海英;林波

技術領域

本實用新型涉及電磁裝置技術領域，尤其涉及一種調整渦流場均勻度的磁性組件及電磁爐。

背景技術

電磁爐工作時線圈盤產生的磁場大多集中在中部，而越到外圍，磁場密度越小，導致加熱區域不均勻，影響電磁爐能效的提升。磁性材料對磁場分布具有負導向作用，使用鏤空橫截面積有內到外逐步變大的磁性圓盤安裝在線圈盤頂部改善磁場中部集中的弊端。

如專利號為CN200920026930.9的專利公開了一種電磁線盤，包括線盤盤架和線圈，所述線圈品質因數Q值不低于3，所述線盤盤架中分散設有顆粒狀或者粉末狀的磁性物。電磁線盤通過上述改進可以取消現有技術中所用的磁條，由于磁性物的作用，使磁力線聚集，從而提升熱效率，減少磁泄漏，降低電磁輻射。

上述技術雖然能夠在一定程度上提升熱效率，減少磁泄漏，但是其依然存在磁感線分布不均勻的問題。

針對上述問題，我們需要一種能夠解決磁感線分布不均勻的調整渦流場均勻度的磁性組件及電磁爐。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提出一種調整渦流場均勻度的磁性組件，能夠解決磁感線分布不均勻的問題。

本實用新型的另一個目的在于提出一種電磁爐，能夠解決現有的電磁爐磁感線分布不均勻的問題。

為達此目的，本實用新型采用以下技術方案：

一種調整渦流場均勻度的磁性組件，其包括基板，以及設置在基板的部分區域上的鐵磁性粉末或顆粒；

所述鐵磁性粉末或顆粒在基板中部區域的分布面積大于在基板外圍區域的分布面積。

作為上述調整渦流場均勻度的磁性組件的一種優選方案，所述基板上設置有多圈均勻分布的通孔。

作為上述調整渦流場均勻度的磁性組件的一種優選方案，位于基板中部區域的通孔孔徑小于位于基板外圍區域通孔的孔徑。

作為上述調整渦流場均勻度的磁性組件的一種優選方案，所述通孔的橫截面積由內到外逐步增大。

作為上述調整渦流場均勻度的磁性組件的一種優選方案，所述通孔的橫截面積不連續增大。

作為上述調整渦流場均勻度的磁性組件的一種優選方案，所述通孔的橫截面為圓形或扇形。

作為上述調整渦流場均勻度的磁性組件的一種優選方案，所述鐵磁性粉末或顆粒通過噴附的方式設置在基板上。

作為上述調整渦流場均勻度的磁性組件的一種優選方案，所述基板為云母片、塑膠件或微晶板。

一種電磁爐，包括線圈盤，其中，所述線圈盤上部設置有如以上所述的調整渦流場均勻度的磁性組件。

作為上述電磁爐的一種優選方案，所述調整渦流場均勻度的磁性組件可拆卸的設置在線圈盤的上部。

本實用新型的有益效果為：通過在基板的部分區域上設置鐵磁性粉末或顆粒，并且鐵磁性粉末或顆粒在基板中部區域的分布面積大于在基板外圍區域的分布面積。由此，當將由基板構成的磁性組件設置在電磁爐線圈盤的上部時，可以使磁感線變的分散均勻，進而提高了電磁爐的工作效率。

附圖說明

圖1是本實用新型具體實施方式提供的調整渦流場均勻度的磁性組件的正面結構示意圖；

圖2是本實用新型具體實施方式提供的調整渦流場均勻度的磁性組件的反面結構示意圖。

其中：

1：基板；2：鐵磁性粉末；3：通孔。

具體實施方式

下面結合附圖并通過具體實施方式來進一步說明本實用新型的技術方案。

如圖1、圖2所示，在本實施方式中提供了一種調整渦流場均勻度的磁性組件，其包括基板1，以及設置在基板1的部分區域上的鐵磁性粉末2或顆粒。在本實施方式中，優選的是鐵磁性粉末2。鐵磁性粉末2或顆粒在基板1中部區域的分布面積大于在基板1外圍區域的分布面積。

本實施方式中提供的磁性組件適用于設置在電磁爐線圈盤的上部。電磁爐工作時線圈盤產生的磁場大多集中在中部，而越到外圍，磁場密度越小，導致加熱區域不均勻，影響電磁爐能效的提升。磁性材料對磁場分布具有負導向作用，由于鐵磁性粉末2或顆粒在基板1中部區域的分布面積大于在基板外圍區域的分布面積。由此，將此磁性組件安裝在線圈盤的上部能夠起到均勻線圈盤磁場的作用。

具體的，基板1為鏤空結構，并且在基板1的一個側面上設置有鐵磁性粉末2或顆粒，具體的，基板1上設置有多圈均勻分布的通孔3，位于基板1中部區域的通孔孔徑小于位于基板1外圍區域通孔的孔徑。進一步具體的，通孔3的橫截面積由內到外逐步增大。通孔3的橫截面積由內到外逐步增大是一種優選方案，當然該橫截面積的變化也可以是不連續的。