[實用新型]一種成像薄膜

有效

• 申請號: 201520794970.3
• 申請日: 2015-10-14
• 公開（公告）號: CN205333897U
• 公開（公告）日: 2016-06-22
• 發明（設計）人: 張健
• 申請（專利權）人: 昇印光電（昆山）股份有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 黨曉林

技術領域

本實用新型涉及光學薄膜技術領域，尤其涉及一種成像薄膜。

背景技術

莫爾技術是一類引人注目的新型視覺安全技術。它利用微透鏡陣列的聚焦作用將微圖案 高效率地放大,實現具有一定景深并呈現奇特動態效果的圖案。

現有技術中帶有微透鏡的薄膜包括基底、微透鏡以及圖案層。這樣的薄膜首先是含有基 底從而導致厚度增加，并且圖案層裸露或者需要保護層。

專利文件200480040733.2公開了一種應用于鈔票等有價證券開窗安全線的微透鏡陣列 安全元件。它的基本結構為：在透明基層的上表面設置周期性微透鏡陣列，在透明基層的下 表面設置對應的周期型微圖案陣列，微圖案陣列位于微透鏡陣列的焦平面或其附近，微圖案 陣列與微透鏡陣列排列大致相同，通過微透鏡陣列對微圖案陣列的莫爾放大作用。

該專利公開了兩種制作微圖案的方法：由選自噴墨、激光、凸版印刷、膠版印刷、照相 凹版印刷、及凹版印刷法所組成的群組的印刷方法，在透明基層下表面設置凸出的微圖案油 墨；或者在透明基層下表面形成有圖案的凹陷，并在凹陷中填充油墨進而形成微圖案。后者 具有幾乎無限空間解析度的優點。因此，分別在透明基層上下表面設置微透鏡和凹陷型微圖 案具有最優的圖形復雜度和解析度有利于最大化提高該安全器件的仿制難度。

然而這種安全元件目前的使用方法主要是整體嵌入紙張或者粘合于印刷品表面。燙印是 目前將局部安全元件設置于產品包裝的一種主流的方法。然而燙印技術要求安全元件是一層 很薄且可以切斷的薄膜。

當前的工業界，具有實際加工可行性的最小透明基層厚度是23um，再加上微透鏡和凹陷 結構的厚度，整體安全元件的厚度一般會增加到40um以上。因此，如此厚的整體結構極不利 于高速燙印時及時切斷。此外透明基材往往具有良好的機械性能，這也不利于燙印的切斷要 求。

為了將安全元件與主流的燙印方式相適應，必須去除該安全元件中的透明基層。專利文 件200480040733.2在圖13-14中公開了一種可篡改標示材料實施例。即剝離覆蓋在微透鏡表 面的可剝離層時，微圖案的放大效果會在剝離前后發生變化。值得一提的是：從圖14看，為 “剝離改變”膜結構，該結構包括一可剝離微透鏡、第二微透鏡、第一圖案層以及第二圖案 層，可以在第二微透鏡背面直接印刷第一圖案層，第一圖案層與第二圖案層之間還設有光學 間隔器244，此時第二微透鏡與第一圖案層之間進而排除了透明基材，但是此時的第二微透 鏡并不能顯示第一圖案層的影像(見說明書第20頁第二段)。再者，該專利說明書第29～30 頁公開了該專利中的結構制備方法，基本包括以下步驟：S01一個或多個光學間隔器；S02微 透鏡以及圖案層分別位于光學間隔器表面。其中光學間隔器表面設可固化樹脂制備微透鏡以 及圖案層。

所以無論是圖13與圖14中的結構還是說明書29～30頁公開的制備方法，微透鏡以及圖 案層的顯示影像務必都要設置光學間隔器層，制備的方法為在光學間隔器表面涂布可固化樹 脂，以備制備微透鏡與圖案層；但是就是該種結構造成如此厚的整體結構極不利于高速燙印 時及時切斷。此外，透明基材往往具有良好的機械性能，這也不利于燙印的切斷要求。

因此，有必要采用新的方案，來減小具有微透鏡和凹陷型微圖案的可轉印莫爾安全元件 的厚度，即減小成像薄膜的厚度。

實用新型內容

本申請實施例的目的是提供一種成像薄膜，以實現減小成像薄膜的厚度的目的。

為解決上述技術問題，本申請實施例提供一種成像薄膜是這樣實現的：

本申請實施例提供了一種成像薄膜，包括：由一種聚合物制成的本體；

所述本體的一表面上形成有聚焦結構；

所述本體的內部形成有圖文結構，所述圖文結構與所述聚焦結構相適配從而成像。

在一實施例中，所述本體和所述聚焦結構為一體結構。

在一實施例中，所述本體由第一聚合物制成，所述聚焦結構由材質與第一聚合物不同的 第二聚合物制成，在所述本體與所述聚焦結構之間形成有融合部。

在一實施例中，所述第二聚合物和所述第一聚合物之間的折射率之差小于0.5。

在一實施例中，所述聚焦結構包括一個或多個聚焦單元，多個所述聚焦單元之間的間距 為1微米～200微米。

在一實施例中，所述聚焦結構包括一個或多個聚焦單元，多個所述聚焦單元中的至少一 個為微透鏡或菲涅爾透鏡。