[實用新型]新型清洗裝置

有效

• 申請號: 201520793800.3
• 申請日: 2015-10-14
• 公開（公告）號: CN205074283U
• 公開（公告）日: 2016-03-09
• 發明（設計）人: 武新年;何仲輝
• 申請（專利權）人: 保定市普天奧電子科技設備有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及電鍍工件清洗技術領域，更具體地說，特別涉及一種新型清洗裝置。

背景技術

連續電鍍生產線在生產過程中，被鍍工件從電鍍液中移出來后必須經過多次反復清洗，才能把被鍍工件上所附帶的藥水清洗干凈，以便下道工序使用。為了達到這一目的，傳統上使用逆流清洗缸，依次設有A、B、C三個清洗缸，被鍍工件在清洗缸上的清洗槽中移動，干凈的水通過補水口對清洗缸A進行補水，而清洗缸A中的水通過溢流口流入B清洗缸，清洗缸B中的水通過溢流口流入清洗缸C，清洗缸C中的水通過溢流口流入污水處理系統。

清洗缸A/B/C中的水通過循環泵輸送到清洗槽中對被鍍工件進行反復清洗，清洗后的水再回流到各自的清洗缸中。這一結構的缺陷為：由于干凈的清洗水直接補到清洗缸A中，而清洗缸A中的水又有清洗過被鍍工件后回流到其中的污染水，即雖然經過多次清洗，直至最后一次清洗水并不是清潔的水，因此不可能使被鍍工件完全清潔，為了清洗干凈被鍍工件，就需要更多的水，更多的清洗工序，既增加了生產升本，又浪費了生產時間，不適合于大規模推廣。

實用新型內容

(一)技術方案

本實用新型提供了一種新型清洗裝置，包括有清洗組件、噴淋清洗系統、排污系統和補液系統；

所述清洗組件具有清洗室，所述清洗室的底部為清洗水槽，所述清洗水槽的底部設置有排污口，所述排污口上設置有排污閥門；

所述噴淋清洗系統包括有自來水通道、與所述自來水通道連通的環形噴頭、設置于所述自來水通道上用于控制其開、閉的電磁閥、用于檢測工件的傳感器以及控制器，所述電磁閥、所述傳感器以及所述排污閥門與所述控制器信號連接，所述環形噴頭設置于所述清洗室的頂部，所述傳感器設置于所述清洗室內；

所述排污系統具有排污管道，所述排污管道與所述排污閥門連接；

補液系統包括有補液罐，所述補液罐與所述清洗水槽連接。

優選地，所述補液罐上設置有氣動閥門和限流閥門，所述補液罐通過所述氣動閥門以及所述限流閥門與所述清洗水槽連接。

優選地，所述清洗組件包括有三個，三個所述清洗組件相互獨立設置；于各個所述清洗組件上均設置有獨立的用于排出污水的所述排污管道。

(二)有益效果

通過上述結構設計，在本實用新型中，清洗室采用上部噴淋方法和下部浸泡方法清洗，同時使用更好地保障工件的清洗效果，較傳統清洗組件單純的浸泡方法清洗效果更好。上部噴淋方法可依據電鍍工件控制開啟，減小了清洗液的使用數量；噴淋組件和補液裝置全部采用電路系統控制，節省人工操作清洗組件的不可控制性，保障了清洗的連續性和穩定性；節省的清洗液還降低了電鍍工件的生產成本，具有很好的可推廣性，適用于工業化大范圍應用。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例中新型清洗裝置的結構示意圖；

圖2為本實用新型實施例中清洗組件的結構示意圖；

圖3為本實用新型實施例中補液系統的結構示意圖；

圖4為本實用新型實施例中噴淋系統中涉及的電路原理圖；

在圖1至圖3中，部件名稱與附圖編號的對應關系為：

清洗室1、環形噴頭2、電磁閥3、排污管道4、補液罐5、氣動閥門6、限流閥門7。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本實用新型的實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不能用來限制本實用新型的范圍。

在本實用新型的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上；術語“上”、“下”、“左”、“右”、“內”、“外”、“前端”、“后端”、“頭部”、“尾部”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。此外，術語“第一”、“第二”、“第三”等僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。

在本實用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本實用新型中的具體含義。