[實用新型]用于等離子反應室元件表面處理的遮蔽裝置

有效

• 申請號: 201520792020.7
• 申請日: 2015-10-14
• 公開（公告）號: CN205122531U
• 公開（公告）日: 2016-03-30
• 發明（設計）人: 姜文興
• 申請（專利權）人: 科閎電子股份有限公司
• 主分類號: H01J37/16
• 分類號: H01J37/16;H01J37/02;H05H7/00;H01L21/67
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 翟羽

1.一種用于等離子反應室元件表面處理的遮蔽裝置，其特征在于，所述等離子反應室元件的表面具有至少一目標處理區域和至少一非處理區域，所述遮蔽裝置設置在所述等離子反應室元件的周圍，用于遮蔽所述等離子反應室元件的所述至少一非處理區域并且暴露所述至少一目標處理區域。

2.如權利要求1所述的遮蔽裝置，其特征在于，所述遮蔽裝置至少包含：

一第一遮蔽單元，設置在所述等離子反應室元件的一第一面，用于遮蔽一位于所述第一面的第一非處理區域；

一第二遮蔽單元，設置在所述等離子反應室元件的相對于所述第一面的一第二面，用于遮蔽一位于所述第二面的第二非處理區域；以及

一第一固定機構，用于將所述第一遮蔽單元和所述第二遮蔽單元分別與所述等離子反應室元件結合。

3.如權利要求2所述的遮蔽裝置，其特征在于，所述第一固定機構包含多個螺絲，所述第一遮蔽單元和所述第二遮蔽單元分別包含至少一相對應的鎖固孔，通過多個所述螺絲將所述第一遮蔽單元和所述第二遮蔽單元分別鎖固于所述等離子反應室元件的相對應的所述第一面或所述第二面。

4.如權利要求2或3所述的遮蔽裝置，其特征在于，所述遮蔽裝置進一步包含一第三遮蔽單元以及一第二固定機構，所述第三遮蔽單元設置在所述第一遮蔽單元和所述第二遮蔽單元之間，用于遮蔽一位于所述第一面和所述第二面之間的第三非處理區域，所述第二固定機構用于使所述遮蔽單元互相結合。

5.如權利要求4所述的遮蔽裝置，其特征在于，所述第三遮蔽單元為從一垂直于所述第一遮蔽單元或所述第二遮蔽單元的方向延伸形成。

6.如權利要求4所述的遮蔽裝置，其特征在于，所述第二固定機構包含多個螺絲，所述遮蔽裝置的所述遮蔽單元分別包含至少一相對應的鎖固孔，通過多個所述螺絲將所述遮蔽單元互相鎖固。

7.如權利要求4所述的遮蔽裝置，其特征在于，所述遮蔽單元與所述等離子反應室元件互相結合的位置和所述遮蔽單元互相結合的位置分別包含一氣密元件。

8.如權利要求4所述的遮蔽裝置，其特征在于，所述遮蔽裝置進一步包含一第四遮蔽單元套設在所述等離子反應室元件的一突出部，用于遮蔽一位于所述突出部的第四非處理區域。

9.如權利要求2所述的遮蔽裝置，其特征在于，所述遮蔽裝置進一步包含一第三遮蔽單元設置于所述等離子反應室元件的所述第一面，用于遮蔽位于所述等離子反應室元件的一突出部的一第三非處理區域，其中所述突出部從所述等離子反應室元件的所述第一面向外突伸形成。

10.如權利要求1所述的遮蔽裝置，其特征在于，所述遮蔽裝置包含一測試頭，用于測試所述遮蔽裝置是否有漏氣現象。