[實用新型]一種雙臺面激光直寫曝光機

有效

• 申請號: 201520764904.1
• 申請日: 2015-09-30
• 公開（公告）號: CN205003441U
• 公開（公告）日: 2016-01-27
• 發明（設計）人: 陸敏婷
• 申請（專利權）人: 合肥芯碁微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 合肥天明專利事務所 34115
• 代理人: 張祥騫;奚華保

1.一種雙臺面激光直寫曝光機，包括一體化底座（13）、光路系統（6）、左CCD組件（10）和右CCD組件（9），一體化底座（13）上安裝有支撐底座（12），支撐底座（12）上安裝有臺面支撐調整組件A（30），臺面支撐調整組件A（30）包括掃描軸（2），掃描軸（2）的上方安裝有聚集Z軸（3），聚集Z軸（3）上方安裝有真空吸盤（4），其特征在于：

還包括臺面支撐調整組件B（31），臺面支撐調整組件B（31）與臺面支撐調整組件A（30）兩者結構相同，臺面支撐調整組件B（31）安裝在支撐底座（12）上且與臺面支撐調整組件A（30）橫向對應；

支撐底座（12）上安裝有雙滑塊運動組件（8）和精密運動步進軸（7），雙滑塊運動組件（8）和精密運動步進軸（7）均位于臺面支撐調整組件A（30）和臺面支撐調整組件B（31）的上方，光路系統（6）安裝在精密運動步進軸（7）的運動滑塊上且光路系統（6）的曝光方向朝向臺面支撐調整組件A（30）或臺面支撐調整組件B（31），雙滑塊運動組件（8）的左滑塊（17）上安裝有左CCD組件（10），雙滑塊運動組件（8）的右滑塊（20）上安裝有右CCD組件（9），左CCD組件（10）和右CCD組件（9）的光源方向朝向臺面支撐調整組件A（30）或臺面支撐調整組件B（31）。

2.根據權利要求1所述的一種雙臺面激光直寫曝光機，其特征在于：所述的雙滑塊運動組件（8）包括安裝在支撐底座（12）上的雙滑塊底座（23），雙滑塊底座（23）上安裝有導軌（16），左滑塊（17）和右滑塊（20）安裝在導軌（16）上且與導軌（16）構成滑動配合。

3.根據權利要求1所述的一種雙臺面激光直寫曝光機，其特征在于：還包括隔板（11），隔板（11）安裝在支撐底座（12）上且位于臺面支撐調整組件A（30）和臺面支撐調整組件B（31）之間。

4.根據權利要求1所述的一種雙臺面激光直寫曝光機，其特征在于：還包括電控系統（5），電控系統（5）固定安裝在一體化底座（13）上，左滑塊（17）驅動電機的控制線、右滑塊（20）驅動電機的控制線均接在電控系統（5）上，精密運動步進軸（7）的驅動控制線接在電控系統（5）上。

5.根據權利要求2所述的一種雙臺面激光直寫曝光機，其特征在于：所述的左CCD組件（10）包括左CCD支架（18），左CCD支架（18）安裝在左滑塊（17）上，左CCD支架（18）上安裝有左CCD系統（19），左CCD系統（19）包括安裝在左CCD支架（18）上的CCD放大光路（25），CCD放大光路（25）的尾端安裝有CCD相機（26），CCD放大光路（25）的前端安裝有CCD光源（24）；右CCD組件（9）包括右CCD支架（21），右CCD支架（21）安裝在右滑塊（20）上，右CCD支架（21）上安裝有右CCD系統（22），右CCD系統（22）與左CCD系統（19）兩者結構相同。