[實用新型]一種氣體分布裝置有效
| 申請號： | 201520711780.0 | 申請日： | 2015-09-15 |
| 公開（公告）號： | CN205062177U | 公開（公告）日： | 2016-03-02 |
| 發明（設計）人： | 周大恩 | 申請（專利權）人： | 煙臺鵬程環?？萍加邢挢熑喂?/a> |
| 主分類號： | C23C16/455 | 分類號： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 264000 山東省煙*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 氣體 分布 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種氣體分布裝置，包括殼體，殼體設有進氣口（4），殼體設有2個以上的出氣通孔（2），其特征在于：殼體的內腔設有球體（3）。
2.根據權利要求1所述一種氣體分布裝置，其特征在于：所述殼體為第1球殼體（1），球體（3）的直徑大于第1球殼體內壁所形成球面直徑的1/2。
3.根據權利要求1所述一種氣體分布裝置，其特征在于：所述殼體為第1球殼體（1），第1球殼體（1）的內壁設有2個以上的限位桿（6），所述球體（3）位于所有限位桿（6）端部形成的空間內。
4.根據權利要求3所述一種氣體分布裝置，其特征在于：所述限位桿（6）朝向所述第1球殼體（1）的中心，所有限位桿（6）端部形成的空間為球面空間，所述球體（3）位于所述球面空間內。
5.根據權利要求4所述一種氣體分布裝置，其特征在于：所述球體（3）為第2球殼體。
6.根據權利要求5所述一種氣體分布裝置，其特征在于：所述第1球殼體（1）和第2球殼體為金屬材料或塑料材料。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
