[實用新型]一種光輻射阻隔薄膜

有效

• 申請號: 201520680378.0
• 申請日: 2015-09-06
• 公開（公告）號: CN204955576U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發明（設計）人: 杜成城;尹瑞堂
• 申請（專利權）人: 汕頭萬順包裝材料股份有限公司
• 主分類號: B32B15/04
• 分類號: B32B15/04;B32B23/00;B32B27/00
• 代理公司: 汕頭新星專利事務所 44219
• 代理人: 林希南

1.一種光輻射阻隔薄膜，由透明基膜以及附著于其上的反射層，其特征是：所述反射層由反射材料的底層區域、防護材料的頂層區域以及所述反射材料和所述防護材料混合在一起的中間層區域組成，所述底層區域采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述頂層區域采用NiCr或Ti的防護材料，所述底層區域、中間層區域和頂層區域均是在同一個真空濺鍍室內依次連續成型，所述反射層的總厚度控制在5-50nm、所述中間層區域的厚度控制在0.5-15nm。

2.按權利要求1所述的光輻射阻隔薄膜，其特征是所述透明基膜與所述反射層之間設有第一吸收層，所述反射層頂面依次設有第二吸收層和保護層。

3.按權利要求2所述的光輻射阻隔薄膜，其特征是所述第二吸收層和所述保護層之間還依次設有另外的一個以上的反射層并間以一個以上的吸收層，另外的反射層的材質和結構與所述反射層相同，另外的吸收層的材質與所述吸收層相同。

4.按權利要求1或2所述的光輻射阻隔薄膜，其特征是所述反射層的厚度取10-35nm。

5.按權利要求1或2所述的光輻射阻隔薄膜，其特征是所述反射層的中間層區域的較佳厚度可以取0.5-10nm。

6.按權利要求2所述的光輻射阻隔薄膜，其特征是所述透明基膜和所述第一吸收層之間還設有改善附著性能的密著層，所述密著層的材料采用SiO_x或SiO_xN_y。

7.按權利要求2所述的光輻射阻隔薄膜，其特征是所述透明基膜和所述第一吸收層和所述反射層之間還設有用于改善吸收層的透射特性的改善層，所述改善層的材料采用ZnO、AZO或ITO。