[實用新型]一種畫眉修眉輔助工具

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520651422.5
• 申請日: 2015-08-26
• 公開（公告）號: CN204889070U
• 公開（公告）日: 2015-12-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王晶;孫世華;吳欣
• 申請（專利權(quán)）人: 北京思湃科技有限公司
• 主分類號: A45D44/22
• 分類號: A45D44/22
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 郝瑞剛

1.一種畫眉修眉輔助工具，其特征在于，其包括臉型卡和修畫眉模板；修畫眉模板由薄板制成，中間設(shè)置有眉毛形狀的鏤空；修畫眉模板的一側(cè)面通過靜電吸附或不粘膠臨時粘貼在所述臉型卡上，另一側(cè)面設(shè)置有用于將所述修畫眉模板粘貼在臉部眉骨上的粘膠；臉型卡上對稱設(shè)置有用于所述修畫眉模板定位的定位輔助線和定位參照點，修畫眉模板上設(shè)置有用于輔助定位的校準(zhǔn)線和校準(zhǔn)點；修畫眉模板粘貼在臉型卡上，修畫眉模板上的校準(zhǔn)線和校準(zhǔn)點分別與臉型卡上選定的定位輔助線和定位參照點重合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的畫眉修眉輔助工具，其特征在于，所述修畫眉模板就其切面而言依次包括靜電吸附層、貼片層和粘膠層；所述臉型卡在粘貼所述修畫眉模板的一側(cè)設(shè)置有靜電吸附薄膜；所述靜電吸附層和所述靜電吸附薄膜由靜電吸附片材制成，表面光滑；通過靜電吸附層和靜電吸附薄膜之間的相互吸附，修畫眉模板靜電吸附在所述臉型卡上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的畫眉修眉輔助工具，其特征在于，所述靜電吸附層的表面上臨時粘貼有靜電層保護膜；所述臉型卡的所述靜電吸附薄膜表面上臨時粘貼有靜電保護膜；所述靜電層保護膜和靜電保護膜均由塑料薄片制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的畫眉修眉輔助工具，其特征在于，所述修畫眉模板就其切面而言依次包括粘膠層、貼片層和不粘膠涂層；不粘膠涂層具有光滑表面；所述臉型卡在粘貼所述修畫眉模板的一側(cè)設(shè)置有不干膠涂層；修畫眉模板通過不粘膠涂層和所述不干膠涂層臨時粘貼在所述臉型卡的眉骨位置；不干膠涂層的表面上臨時粘貼有不干膠保護膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的畫眉修眉輔助工具，其特征在于，所述粘膠層表面上臨時粘貼有粘膠保護膜；所述粘膠保護膜由塑料、紙制成，粘膠保護膜包括一不粘膠的光滑表面。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的畫眉修眉輔助工具，其特征在于，所述臉型卡由透明材料制成；所述定位輔助線和定位參照點標(biāo)記在所述臉型卡臨時粘貼所述修畫眉模板相對一側(cè)的側(cè)面上。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的畫眉修眉輔助工具，其特征在于，所述臉型卡包括由透明的柔性薄片材料制成的基片，所述修畫眉模板粘貼在所述基片的一側(cè)；基片另一側(cè)的表面上標(biāo)注有所述定位輔助線和定位參照點；或者，基片另一側(cè)設(shè)置有印刷層，所述定位輔助線和定位參照點標(biāo)注在所述印刷層內(nèi)側(cè)上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的畫眉修眉輔助工具，其特征在于，所述定位輔助線包括若干條水平輔助線和垂直輔助線；所述定位參照點分為眉頭參照點、眉峰參照點和眉尾參照點。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的畫眉修眉輔助工具，其特征在于，所述臉型卡上設(shè)置有若干組適合不同瞳距的所述眉頭參照點、眉峰參照點和眉尾參照點。