[實用新型]一種設置有去霧裝置的等離子凈化裝置

有效

• 申請號: 201520651419.3
• 申請日: 2015-08-27
• 公開（公告）號: CN204933173U
• 公開（公告）日: 2016-01-06
• 發明（設計）人: 郭春明
• 申請（專利權）人: 郭春明
• 主分類號: B01D50/00
• 分類號: B01D50/00;B01D53/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種工業廢氣凈化裝置，更具體而言一種設置有去霧裝置的等離子凈化裝置。

背景技術

目前的煉油廠、橡膠廠、皮革廠、印刷廠、化工廠、制藥廠、金屬鑄造廠、塑料再生廠、噴涂溶劑、垃圾轉運站等工廠在生產過程中都會產生工業廢氣，而如何處理所產生的廢氣是目前我國社會所面臨的嚴峻的問題，由于這些工業廢氣中含有有機和無機物惡臭氣體，因此需要對這些工業廢氣進行脫臭凈化處理，目前常用的方式是使用等離子發生裝置處理廢氣，由于等離子是由電子、離子、自由基和中性粒子組成。它們比常規分子小。

等離子體凈化技術就是利用高頻高壓的電場，將空氣中的氧分子和其他分子電離產生出電子、離子、自由基和中性粒子等小分子，這些等離子通過進入需分解的臭氣分子的內部，打開分子鏈，破壞分子結構的原理，以每秒鐘300萬至3000萬速度的等量發射和回收，轟擊發生臭氣的分子，從而發生氧化等一系列復雜的化學反應，將有害物轉化成為無害物。因此等離子裝置處理廢氣的方式，成為一種流行的方式，但是目前的等離子凈化在具體使用的時候，由于在需要噴水工藝，即采用噴淋塔使廢棄經過噴淋塔，而后經過干燥通過等離子或者光解設備，但是由于無法保證經過的等離子設備的的廢棄是干燥的，也就是說如果長時間使用，廢棄中含有的水份會腐蝕等離子設備，給造成很大的麻煩。

發明內容

本實用新型的主要目的在于提供一種設置有去霧裝置的等離子凈化裝置，其通過結構改良，相比目前技術增加去霧裝置，促使進入離子發生室內的廢氣不含有水汽，并可以通過抽拉的方式進行粉塵過濾裝置或者去霧裝置的更換，進一步降低維修、使用成本。

本實用新型采用的技術方案為：一種等離子凈化裝置，包括機架、粉塵過濾裝置、去霧裝置以及多個等離子發生裝置，其中，該機架內部依次間隔有密閉的除塵室、離子發生室以及混合凈化室，其中，該粉塵過濾裝置可拆卸安裝在該除塵室中，該去霧裝置可拆卸地安裝在該過濾裝置一側的該除塵室中，該多個等離子發生裝置可拆卸插接在該離子發生室中，該除塵室設置有隔板，該隔板中設置有供該粉塵過濾裝置、該去霧裝置伸入除塵室內的槽口，該粉塵過濾裝置、該去霧裝置通過該槽口伸入至該除塵室中。

該設置有去霧裝置的等離子凈化裝置還包括總控制電箱，該總控制電箱通過電箱安裝在該混合凈化室外側的該機架內。

本實用新型的有益效果為：本實用新型在結構上包括機架、粉塵過濾裝置、去霧裝置以及多個等離子發生裝置，其中，該機架內部依次間隔有密閉的除塵室、離子發生室以及混合凈化室，其中，該粉塵過濾裝置可拆卸安裝在該除塵室中，該去霧裝置可拆卸地安裝在該過濾裝置一側的該除塵室中，該多個等離子發生裝置可拆卸插接在該離子發生室中，該除塵室設置有隔板，該隔板中設置有供該粉塵過濾裝置、該去霧裝置伸入除塵室內的槽口，該粉塵過濾裝置、該去霧裝置通過該槽口伸入至該除塵室中。其通過結構改良，相比目前技術增加去霧裝置，促使進入離子發生室內的廢氣不含有水汽，并可以通過抽拉的方式進行粉塵過濾裝置或者去霧裝置的更換，進一步降低維修、使用成本。

附圖說明

圖1為本實用新型去除相應封板的結構示意圖。

圖2為本實用新型去除相應封板后的機架示意圖。

圖3為本實用新型的粉塵過濾裝置、去霧裝置與隔板的示意圖。

圖4為本實用新型的電箱安裝在機架內部的示意圖。

具體實施方式

如圖1至圖4所示為本實用新型的一種較佳的具體實施例子，一種設置有去霧裝置的等離子凈化裝置，如圖1、圖2所示，包括機架10、粉塵過濾裝置20、去霧裝置30以及多個等離子發生裝置40，其中，該機架10內部依次間隔有密閉的除塵室11、離子發生室12以及混合凈化室13，其中，該粉塵過濾裝置20可拆卸安裝在該除塵室11中，該去霧裝置30可拆卸地安裝在該過濾裝置20一側的該除塵室11中，該多個等離子發生裝置40可拆卸插接在該離子發生室12中。

進一步，如圖3所示，該除塵室11設置有隔板111，該隔板111中設置有供該粉塵過濾裝置20、該去霧裝置30伸入除塵室11內的槽口112，該粉塵過濾裝置20、該去霧裝置30通過該槽口112伸入至該除塵室11中，當需要粉塵過濾裝置20或者去霧裝置30時，直接采用抽拉方式將需要更換的粉塵過濾裝置20或者去霧裝置30抽出更換維修。

更進一步，如圖4所示，本實用新型還包括總控制電箱50，該總控制電箱50通過電箱51安裝在該混合凈化室13外側的該機架10內。