[實用新型]超聲霧化熱解噴涂反應室的獨立式多源機構有效
| 申請號: | 201520614136.1 | 申請日: | 2015-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN205008170U | 公開(公告)日: | 2016-02-03 |
| 發明(設計)人: | 龔恒翔;劉攀 | 申請(專利權)人: | 重慶理工大學 |
| 主分類號: | B05B17/06 | 分類號: | B05B17/06 |
| 代理公司: | 重慶市前沿專利事務所(普通合伙) 50211 | 代理人: | 劉興順 |
| 地址: | 400054 *** | 國省代碼: | 重慶;85 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 超聲 霧化 噴涂 反應 立式 機構 | ||
技術領域
本實用新型屬于超聲霧化熱解噴涂領域,具體地說,尤其涉及一種超聲霧化熱解噴涂反應室的獨立式多源機構。
背景技術
超聲霧化熱解噴涂(USP)是一種常見的薄膜材料制備工藝,在科研和生產中有廣泛的用途,這種方法擅長氧化物、硫化物、氯化物等化合物薄膜的制備。合理的工藝參數下,USP薄膜的質量可以與濺射法、CVD方法制備的薄膜材料相當,但成本卻大幅度降低。
摻雜薄膜和多層薄膜是薄膜材料研究和生產中非常常見的情況,傳統的usp方法在摻雜和多層膜制備中存在一定的問題,主要問題在于熱解噴涂的反應室只有一個霧化源,該霧化源工作時根據膜的成本需要向反應室噴射不同成分的液滴。傳統結構只有一個霧化源,這樣就會導致工藝參數的可控性和可重復性差,薄膜質量不穩定,甚至出現交叉污染等缺陷,進而導致得不到所需成分的薄膜。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題在于提供一種超聲霧化熱解噴涂反應室的獨立式多源機構,欲克服傳統結構因共用一個霧化源而導致交叉污染的問題。
本實用新型的技術方案如下:一種超聲霧化熱解噴涂反應室的獨立式多源機構,包括反應室(1),其特征在于:所述反應室(1)下方沿周向設有至少兩個相互獨立的霧化源(2),每個霧化源(2)上部的噴霧口分別連接有一根噴霧管(3),這些噴霧管的上部均朝向所述反應室(1)的軸心線,并與該反應室的軸心線形成一個數值相同的噴霧角α,且15°≤α≤45°;所有所述噴霧管(3)上部的噴霧口處分別設有一塊擋板(4),該擋板與對應的驅動組件相連,并在驅動組件的驅動下有選擇地遮擋或敞開噴霧管(3)上部的噴霧口。
在上述技術方案中,本實用新型摒棄了傳統技術共用一個霧化源的結構,取而代之的是設置多個相互獨立的霧化源(2),這些霧化源(2)沿反應室(1)的周向布置,并在每個霧化源(2)上部的噴霧口分別連接有一根噴霧管(3),且噴霧管(3)上部的噴霧口可由擋板(4)開閉,從而可以在每個霧化源(2)中形成一種成分的霧滴,并可以通過擋板(4)的開閉來控制霧滴的噴出與否,從而得到想要成分的復合膜,從而很好地克服了傳統結構導致交叉污染的缺陷,且本實用新型結構簡單,易于實施,具有很好的技術及經濟價值。
在本案中,所述驅動組件由驅動桿(5)和驅動電機(6)構成,其中驅動桿(5)上端與所述擋板(4)下板面垂直固定,且驅動桿(5)下端穿過所述反應室(1)上的過孔后,與所述驅動電機(6)的輸出軸上端同軸固定,該驅動電機安裝在反應室(1)的外壁上。
采用以上結構,不僅能可靠地驅動擋板(4)遮擋或者敞開噴霧管(3)上部的噴霧口,而且結構簡單,可靠,易于控制。并且,所有的驅動組件可以聯動或者差動。
作為優選,所述噴霧角α的數值為30°。
有益效果:本實用新型摒棄了傳統技術共用一個霧化源的結構,取而代之的是設置多個相互獨立的霧化源,這些霧化源沿反應室的周向布置,并在每個霧化源上部的噴霧口分別連接有一根噴霧管,且噴霧管上部的噴霧口可由擋板開閉,從而可以在每個霧化源中形成一種成分的霧滴,并可以通過擋板的開閉來控制霧滴的噴出與否,從而得到想要成分的復合膜,從而很好地克服了傳統結構導致交叉污染的缺陷,且本實用新型結構簡單,易于實施,具有很好的技術及經濟價值。
附圖說明
圖1為本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明:
如圖1所示,一種超聲霧化熱解噴涂反應室的獨立式多源機構,主要由反應室1、霧化源2、噴霧管3、擋板4和驅動組件構成。其中,反應室1為現有技術,在反應室1的下方沿周向設有至少兩個相互獨立的霧化源2,該霧化源2的具體數目可以為2、3、4、5、6........,其具體數目根據實際情況做相應調整。并且,霧化源2可以采用常規設計的,也可以采用全新設計的,它的具體結構不是本案的保護重點。每個霧化源2上部的噴霧口分別連接有一根噴霧管3,這些噴霧管3的上部均朝向反應室1的軸心線,并與該反應室的軸心線形成一個噴霧角α,且所有噴霧角α的數值相同。在本案中,15°≤α≤45°,并可進一步優選為20°、25°、30°、35°或者40°。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于重慶理工大學,未經重慶理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201520614136.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





