[實用新型]一種玻璃高精度拋光研磨生產設備有效
| 申請號: | 201520603232.6 | 申請日: | 2015-08-11 |
| 公開(公告)號: | CN204843870U | 公開(公告)日: | 2015-12-09 |
| 發明(設計)人: | 艾春前 | 申請(專利權)人: | 東莞晶石光學有限公司 |
| 主分類號: | B24B57/02 | 分類號: | B24B57/02;B24B37/27;B24B37/34 |
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| 地址: | 523000 廣東省東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 玻璃 高精度 拋光 研磨 生產 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及玻璃制造的技術領域,具體涉及一種玻璃高精度拋光研磨生產設備。
背景技術
近來,隨著技術革新,如半導體裝置高集成化,玻璃等材料的超高精度加工等,材料的高精度鏡面拋光已經成為必需。拋光是利用柔性拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質對工件表面進行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度,而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的,有時也用于消光。拋光通常以拋光輪作為拋光工具,拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成,兩側用金屬原版夾緊,其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。
玻璃的拋光是一個復雜的物理化學變化過程,影響拋光效果的兩個主要因素為:表面研磨壓力和研磨速度。現有玻璃拋光技術,一般在拋光上盤貼上自吸附墊,自吸附墊在濕潤時,貼上玻璃,并進行壓平,此時,玻璃即可以牢固地吸附在拋光上盤,這種方式對ITO(IndiumTinOxides,納米銦錫金屬氧化物)所使用的薄玻璃(厚度在1.1mm以下)較為適用,但制作鉻板用的玻璃通常比較厚,一般為3mm或4.8mm,對這種類型的玻璃進行拋光處理時,如果自吸附墊太干,或者即使自吸附墊濕度合適,但玻璃尺寸較大,這些情況都會造成對玻璃吸附不牢固,在拋光過程中玻璃容易被甩出,造成生產事故,如果自吸附墊太過濕潤,又容易造成對玻璃吸附太緊,在拋光完成后難以將玻璃取下。
目前,市場上尚無結構合理,并且研磨精度高、研磨速度快、操作方便的玻璃連續拋光研磨設備。
實用新型內容
為了解決上述問題,本實用新型公開的一種玻璃高精度拋光研磨生產設備,通過拋光輔材及研磨液體池,設置研磨模具,對弧面玻璃產品進行高精度重復研磨。
本實用新型為實現上述目的所采用的技術方案是:
一種玻璃高精度拋光研磨生產設備,其特征在于:其設置研磨液體池,在該研磨液體池內放置三個研磨模具,每個研磨模具上方連接一上下周期活動的研磨裝置,每個研磨模具側方設有輸水裝置,所述輸水裝置包括輸水出水管、水閥以及水泵,所述水泵通過水管連接研磨液體池的底部,并通過另一水管連接一分流管,所述分流管連接每個水閥;
所述上下周期活動的研磨裝置包括上下周期活動機構、電動機以及設置在上下周期活動機構上,并與電動機連接的研磨針。
所述水閥設置在所述上下周期活動的研磨裝置的側方,所述水閥連接的輸水出水管的出水口設置在研磨模具側上方。
所述研磨模具包括上模、下模,所述上模設有連接研磨針的凹槽,所述研磨針連接所述研磨模具的上模;所述上模還包括上模模座以及上模模仁,該上模模仁包括半球狀的凹嵌部,該凹嵌部固定有一薄層磨皮。
所述下模包括下模模座以及下模模仁,該下模模仁包括半球狀的凸起玻璃吸附部,玻璃吸附在所述玻璃吸附部上;所述上模模仁凹嵌部與下模模仁凸起玻璃吸附部相適配。
本實用新型的優點在于:針對目前市場上的玻璃研磨設備的不足,本實用新型設置的研磨液體池,在該研磨液體池中放置拋光粉,并在研磨液體池中設置研磨模具,研磨模具與產品呈同一弧面,并在研磨面上設置薄層磨皮,通過上下周期活動的研磨裝置驅動研磨針以及上模對玻璃產品進行周期性重復研磨,制造出符合產品要求的弧面玻璃產品。
下面結合附圖與具體實施方式,對本實用新型進一步說明。
附圖說明
圖1為本實施例的玻璃高精度拋光研磨生產設備整體結構示意圖;
圖2為圖1中A部位放大結構示意圖;
圖3為本實施例的研磨模具結構示意圖。
圖中:1.研磨液體池,2.研磨模具,21.上模,211.凹槽,212.上模模座,213.上模模仁,214.凹嵌部,22.下模,221.下模模座,222.下模模仁,223.凸起玻璃吸附部,3.研磨裝置,31.上下周期活動機構,32.電動機,33.研磨針,4.輸水裝置,41.輸水出水管,42.水閥,43.水泵,44.水管,45.分流管。
具體實施方式
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