[實用新型]電鍍液槽系統

有效

• 申請號: 201520596758.6
• 申請日: 2015-08-08
• 公開（公告）號: CN204849088U
• 公開（公告）日: 2015-12-09
• 發明（設計）人: 謝彪
• 申請（專利權）人: 謝彪
• 主分類號: C25D17/02
• 分類號: C25D17/02;C25D21/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

【技術領域】

本實用新型涉及電鍍領域,尤其是涉及一種電鍍液槽系統。

【背景技術】

金屬在各種不同環境下使用時,由于外界介質在金屬表面上的化學和電化學作用而產生了金屬腐蝕。金屬腐蝕的結果，不僅是金屬本身的損失，而且由于金屬制品結構的損壞而失去使用價值造成人力物力的浪費，其價值比金屬本身要大很多倍。因此，在大量生產金屬和金屬制品的同時，就必須與金屬的腐蝕進行斗爭。電鍍工藝是增加金屬防護性能及改善金屬表面質量的最有效的方法之一。金屬制品進行電鍍就是為了保護金屬不受腐蝕、改善金屬制品的性能和增加制品表面的美觀。

金屬的電鍍過程通常都是在電鍍液槽內進行。傳統的電鍍液槽通常只有單個或者多個獨立的電鍍液槽。在這種情況下，當產品電鍍完一層金屬要進行下一層金屬電鍍時，就需要把產品從一個電鍍液槽中提起再運送至另外一個電鍍液槽中放下進行電鍍。這種電鍍液槽使得電鍍時需要增加運輸設備把產品從一個電鍍液槽運至其他電鍍液槽，這樣既增加了設備投入成本，又難以保證整個電鍍過程的連續性和電鍍的質量。

除了電鍍液槽本身會對電鍍作業的質量產生影響外，當電鍍液槽內的藥水不同時，也會對電鍍液槽產生不同的要求。比如K4沙丁鎳這種電解質，其有效成分顆粒較大，在過濾循環及補液過程中易發生分解并產生沉淀物，從而使K4沙丁鎳電鍍液的使用壽命縮短，并使電鍍產生的K4沙丁鎳鍍層厚度不均勻。

【實用新型內容】

為克服現有電鍍液槽裝置不能連續進行電鍍，并且電鍍過程中電鍍層厚度不均勻的缺點，本實用新型提供一種可以進行連續電鍍，在電鍍過程中電鍍層均勻的電鍍液槽系統。

本實用新型解決技術問題的方案是提供一種電鍍液槽系統，包括電鍍液母槽，電鍍液母槽底部設置有循環進液口和循環出液口，循環進液口和循環出液口之間有一條電鍍液通路，電鍍液通路上設置有過濾補液裝置。

優選地，所述電鍍液母槽內設置一液位隔板，液位隔板將電鍍液母槽劃分為集液槽和供液槽。

優選地，所述液位隔板的高度為電鍍液母槽高度的三分之一至五分之四。

優選地，所述集液槽和供液槽之間包括第二條電鍍液通路，這條電鍍液通路設置在液位隔板上方。

優選地，所述電鍍液母槽上設置有一對凹形槽口。

優選地，所述電鍍液子槽也為一上表面敞開的即為凹形槽口的槽體，并且電鍍液子槽位于電鍍液母槽的上方。

優選地，所述電鍍液子槽中設置有子槽隔板，子槽隔板設置了多個孔洞。

優選地，所述電鍍液母槽中設置有總液位控制器，總液位控制器包括上液位感應器和下液位感應器。

優選地，所述集液槽、供液槽和電鍍液子槽之間包括第三條電鍍液通道，該電鍍液通道上設置有過濾補液裝置。

優選地，所述過濾補液裝置包括過濾裝置和補液裝置。