[實(shí)用新型]減少?gòu)澱鄯磸椓Φ腇PC

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520595584.1
• 申請(qǐng)日: 2015-08-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN204836789U
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-12-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李松強(qiáng);李博;丁柱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 重慶中顯智能科技有限公司;東莞市龍芯光電有限公司;四川三龍電子有限公司
• 主分類號(hào): H05K1/02
• 分類號(hào): H05K1/02
• 代理公司: 深圳華奇信諾專利代理事務(wù)所(普通合伙) 44328
• 代理人: 陳子勛

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及FPC技術(shù)領(lǐng)域，特指一種減少?gòu)澱鄯磸椓Φ腇PC。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的背光源，會(huì)使用到FPC（FlexiblePrintedCircuitboard，撓性印刷電路板），現(xiàn)有的FPC包括有前端、后端、連接部，現(xiàn)有的FPC在加工時(shí)直接整體覆蓋薄膜，整體厚度一樣。FPD與背光源組裝時(shí)，F(xiàn)PC的連接部需要進(jìn)行彎折，此時(shí)連接部彎折會(huì)產(chǎn)生反彈應(yīng)力，F(xiàn)PC彎折后，很容易出現(xiàn)整體反彈的情況，造成生產(chǎn)不良。

因此，基于上述現(xiàn)有的FPC的缺陷，需要對(duì)現(xiàn)有的FPC進(jìn)行改進(jìn)。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足提供一種減少?gòu)澱鄯磸椓Φ腇PC，該減少?gòu)澱鄯磸椓Φ腇PC解決了現(xiàn)有的FPC所存在的：反彈應(yīng)力大、整體容易反彈造成產(chǎn)品不良等缺陷。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

減少?gòu)澱鄯磸椓Φ腇PC，包括本體，本體包括前端、連接部，本體的前端覆蓋有薄膜，連接部未覆蓋薄膜。

前端的厚度為0.13mm。

連接部的厚度0.08mm。

本體的中部沖切出活動(dòng)部，活動(dòng)部的一邊與本體連接，另外三邊與本體沖切分離，活動(dòng)部具有前端、與本體連接的活動(dòng)連接部。

活動(dòng)部的前端覆蓋有薄膜，活動(dòng)連接部未覆蓋薄膜。

活動(dòng)部的厚度為0.13mm。

活動(dòng)連接部的厚度0.08mm。

本實(shí)用新型的有益效果在于：結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，由于連接部未覆蓋薄膜，采用單層結(jié)構(gòu)，可以減少該處彎折時(shí)產(chǎn)生的反彈應(yīng)力，增加柔韌性，可保證模組產(chǎn)品裝配后不反彈。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。

見(jiàn)圖1，本實(shí)用新型減少?gòu)澱鄯磸椓Φ腇PC包括：前端1、連接部2、活動(dòng)部3、活動(dòng)連接部4。

本實(shí)用新型的本體的前端1覆蓋有薄膜，連接部2未覆蓋薄膜。

本實(shí)用新型的前端1的厚度為0.13mm。

本實(shí)用新型的連接部2的厚度0.08mm。

本實(shí)用新型的中部沖切出活動(dòng)部3，活動(dòng)部3的一邊與本體連接，另外三邊與本體沖切分離，活動(dòng)部3具有前端1、與本體連接的活動(dòng)連接部4。

本實(shí)用新型的活動(dòng)部3的前端1覆蓋有薄膜，活動(dòng)連接部4未覆蓋薄膜。

本實(shí)用新型的活動(dòng)部3的厚度為0.13mm。

本實(shí)用新型的活動(dòng)連接部4的厚度0.08mm。

本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，由于連接部2及活動(dòng)連接部4未覆蓋薄膜，采用單層結(jié)構(gòu)，可以減少該處彎折時(shí)產(chǎn)生的反彈應(yīng)力，增加柔韌性，可保證模組產(chǎn)品裝配后不反彈。

當(dāng)然，以上所述之實(shí)施例，只是本實(shí)用新型的較佳實(shí)例而已，并非限制本實(shí)用新型實(shí)施范圍，故凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均應(yīng)包括于本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍內(nèi)。