[實用新型]一種錫槽污染誘除裝置

有效

• 申請號: 201520585722.8
• 申請日: 2015-08-06
• 公開（公告）號: CN204779317U
• 公開（公告）日: 2015-11-18
• 發明（設計）人: 梁曉冀;張治民
• 申請（專利權）人: 蚌埠玻璃工業設計研究院
• 主分類號: C03B18/00
• 分類號: C03B18/00
• 代理公司: 安徽省蚌埠博源專利商標事務所 34113
• 代理人: 楊晉弘

技術領域：

本實用新型涉及玻璃生產上的錫槽設備，具體地說就是一種錫槽污染誘除裝置。

背景技術：

在平板玻璃浮法工藝中，錫槽是成型設備，用于盛裝熔化的錫液，熔化的玻璃液進入錫槽，成型的平板玻璃出口錫槽，將玻璃液漂浮在錫液上攤平而形成平板玻璃。由于錫液易氧化，因此須向錫槽內注入氮氣與氫氣混合的保護氣體，使錫槽內始終保持正壓，以避免錫槽外的氧氣進入錫槽。保護氣體從錫槽頂蓋注入，從錫槽頂磚縫隙滲入錫槽內，從錫槽進出口溢出及縫隙滲出。

錫槽為矩形截面的長箱體，由鋼制外殼、內襯耐火磚、槽頂空間、錫槽空間、錫液及其它等組成，錫槽頂磚水平設置，用螺栓吊掛于頂殼。在實際使用中，總是會有少量氧氣滲入錫槽內，使錫液氧化，在錫槽入口端溫度為1050℃，易產生氧化亞錫（SnO）氣體，在錫槽出口端溫度為600℃，氧化亞錫（SnO）氣體易向此飄逸。在飄逸過程中，溫度降至870℃以下后，氧化亞錫氣體會變成含錫化合物的固體粉末，飄落到玻璃帶上，就會產生光畸變點，形成污染點。因而，有必要清除污染氣體氧化亞錫，有必要避免污染氣體飄逸到錫槽出口端。

在錫槽內，頂蓋、側壁部位溫度較低，氧化亞錫氣體易在此遇冷凝結，凝結過多后就會飄落到玻璃帶上，對玻璃造成污染。目前，采用交替加壓減壓方式，對整個錫槽進行定時清掃，使污染物質集中飄落。

實用新型的內容：

本實用新型就是為了克服現有技術中的不足，提供一種結構簡單，使用方便，可以延長錫槽定時清掃周期，提高了生產效率的錫槽污染誘除裝置。

本實用新型提供以下技術方案：

一種錫槽污染誘除裝置，它包括錫槽、錫槽頂蓋、氣體注入管、吊掛螺栓、錫槽頂磚以及錫槽側壁磚，其特征在于：在錫槽頂磚上沿錫槽的寬度方向至少設有一道低溫吊墻，在低溫吊墻中設有與外部連通的冷卻水管，在低溫吊墻的左右兩側設有凸出的凹槽。

在上述技術方案的基礎上，還可以有以下進一步的技術方案：

所述的低溫吊墻的兩端與錫槽側壁磚相連。

在錫槽的前部設有一組低溫吊墻，且每個低溫吊墻之間均間隔有一定距離。

本實用新型的優點在于：

本實用新型結構簡單，使用方便，采用獨特的誘導方式，誘導污染氣體在本裝置周圍凝結，使凝結的顆粒物落入本裝置上的凹槽內，不但防止其飄落而污染玻璃，也可以延長錫槽定時清掃周期。

附圖說明：

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是圖1的A-A剖視圖。

具體實施方式：

如圖1、2所示，一種錫槽污染誘除裝置，它包括錫槽1，在錫槽頂蓋2設有一組吊掛螺栓4，吊掛螺栓4的一端連接有一組錫槽頂磚5，在錫槽頂蓋2和錫槽頂磚5之間形成有槽頂空間2a,在錫槽頂蓋2上還設有一個與槽頂空間2a連通的氣體注入管3。

在錫槽頂磚5的下表面上沿錫槽的寬度方向一組低溫吊墻7，低溫吊墻7的兩端與錫槽側壁磚6相連，且各道低溫吊墻7之間均間隔有一定距離，所述的低溫吊墻7墻體是由一組連接在一起的誘導磚構成。

在每塊誘導磚7a下部的兩側對稱設有一對凸出的凹槽9，所述的各個誘導磚下部的凹槽9形成一個聯通的通槽。

各道低溫吊墻7上的凹槽9外形可以不相同，但槽口均是向上與錫槽頂磚5相對應。

在低溫吊墻7中設有與錫槽外相連通的冷卻水管8，在管內通有冷卻水。

工作原理：

由于在低溫吊墻7設有與外界連通的冷卻水管8，在冷卻水管8中冷卻水的作用下低溫吊墻7的整體溫度較低，而錫槽內的氧化亞錫氣體與低溫吊墻7接觸后就會遇冷凝結，凝結的顆粒物就會落入低溫吊墻7上的凹槽9內。這樣就可以避免凝結的顆粒物飄落到玻璃帶上，對玻璃造成污染。