[實用新型]一種備件清洗裝置

有效

• 申請號: 201520579318.X
• 申請日: 2015-08-05
• 公開（公告）號: CN204842350U
• 公開（公告）日: 2015-12-09
• 發明（設計）人: 張飛;郭晃亨;林兓兓;張家宏
• 申請（專利權）人: 安徽三安光電有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B3/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及半導體生產輔助用具技術領域，主要涉及一種備件清洗裝置。

背景技術

半導體外延制程工藝中經常大量使用石英材質的備件，而因為石英材質不耐高溫，無法采用高溫烤爐來去除外延生長后沉積在備件表面的外延層；同時，采用噴砂機來處理石英備件表面時，會出現石英表面粗糙度、平整度的參數無法達標，造成料件報廢。

現有技術中，備件清洗大多是將備件置于清洗槽中利用有機溶液、強酸、強堿等溶液依次對備件進行處理，且需要使用超聲波對備件進行高強度的震蕩，不僅工序繁瑣復雜，且強酸、強堿、超聲波會腐蝕石英表面或使備件破損，且清洗槽體積較大，即使僅清洗少量備件，也需將清洗槽配置的震蕩裝置完全打開，造成生產成本增加，不適合大規模生產需求。

發明內容

為了克服以上不足，本實用新型旨在提供一種備件清洗裝置，有效應用于備件清洗制程，避免去除備件表面沉積的外延層時損壞備件。

本實用新型采取的技術方案為：一種備件清洗裝置，用于氣相沉積設備中石英備件的清洗，包括：備件置放治具、位于所述備件置放治具底部的氣泡產生裝置、盛放清洗液體及所述備件置放治具的清洗槽；其中，所述備件置放治具包含有上、下支架，所述下支架活動連接于治具底面，于水平方向調節所述治具容納備件的寬度；所述上支架活動連接于治具本體中部位置，于垂直方向調節所述治具容納備件的高度，用以置放不同體積及形狀的備件；所述氣泡產生裝置包括氣泡發生器以及與所述氣泡發生器連接的氣體流通管路。

優選的，所述上、下支架均具有復數個卡槽，用以容納及固定備件，避免所述備件在清洗時因清洗液的流動而晃動導致碰撞。

優選的，所述上、下支架與治具連接處均為溝槽結構，所述水平與垂直方向調節分別沿所述溝槽移動。

優選的，所述氣泡發生器的氣體出口端置有直徑大于或等于氣體流通管路的球體，用以避免所述氣泡發生器工作過程因倒吸而污染所述氣體流通管路。

優選的，所述氣泡產生裝置為壓縮空氣鼓泡裝置或惰性氣體鼓泡裝置。

優選的，所述氣泡發生器的氣體出口端連接有氣泡溢出裝置，所述氣泡溢出裝置具有復數個氣泡溢出孔，用于增加氣泡產生數量。

優選的，所述氣體流通管路附著并固定于備件置放治具的邊緣，一端連接于氣泡發生裝置，另一端連接于氣體供應源。

優選的，所述氣體流通管路還包括壓力流量調節閥，用于調節進入氣泡發生器的氣體流量及壓力，進而調節氣泡的體積及數量。

本實用新型至少具有以下有益效果：（1）利用備件置放治具中的上、下支架調節治具內部體積，利于置放不同體積及形狀的待清洗備件；同時，將每一備件置放治具配備一個氣泡發生器，增加近距離氣泡作用效果，同時僅使用裝有備件的治具所對應的氣泡發生器，避免浪費。（2）相對于超聲波震蕩，利用鼓泡裝置，可以在不影響清洗效果的前提下，減小對備件的耗損及破壞；且在鼓泡裝置中設置防倒吸裝置，避免鼓泡裝置在工作過程中倒吸污染氣體流通管路。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例1之備件清洗裝置示意圖。

圖2為本實用新型實施例1之備件置放治具與氣泡產生裝置組合的正視圖。

圖3為本實用新型實施例1之備件置放治具與氣泡產生裝置組合的側視圖。

圖4為本實用新型實施例1之氣泡發生器示意圖。

附圖中各元件標號說明如下：

1.氣體入口；2.壓力流量調節閥；3.氣體流通管路；4.備件；5.備件置放治具；6.上支架；61.上支架卡槽；7.下支架；71.下支架卡槽；8.氣泡發生器；9.上支架固定螺絲；10.下支架固定螺絲；11.氣泡溢出孔；12.球體；13.垂直調節溝槽；14.水平調節溝槽；15.清洗槽；16.彈簧；17.氣體出口端；18.氣泡溢出裝置。

具體實施方式

以下結合附圖和具體實施案例對本實用新型作進一步的詳細描述，有關本實用新型的相關技術內容，特點和功效，將可以清楚的呈現。