[實用新型]一種RENA制絨槽上滾輪裝置

有效

• 申請號: 201520576509.0
• 申請日: 2015-08-04
• 公開（公告）號: CN204957674U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發明（設計）人: 劉驚雷;唐磊;何晨旭;朱姚培
• 申請（專利權）人: 江蘇榮馬新能源有限公司
• 主分類號: B65G39/02
• 分類號: B65G39/02;H01L31/18
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 張惠忠

技術領域

本申請涉及一種滾輪裝置，具體為一種RENA制絨槽上滾輪裝置，屬于太陽能電池片生產技術領域。

背景技術

硅片在切割過程中會在表面形成大約10μm厚的損傷層，這一層與硅片基體的性質不同，會嚴重影響太陽能電池的性能。

制絨工藝就是利用硅片的這一層損傷層，通過硝酸對其氧化制絨，形成高低不平的表面，大大增加電池片表面的受光面積，減少反射，從而提高太陽能電池的轉換效率。

如圖1所示，現有技術的制絨槽中上滾輪的密封圈排布在同一條線上，這種技術的缺陷是，制絨槽中的硅片經過制絨槽進行化學腐蝕反應的時候，被密封圈擠壓的位置反應程度很小，導致制絨后的硅片在外觀上留下兩條滾輪印。

發明內容

本申請的目的是提供一種將上滾輪的密封圈進行錯位排布，從而分散密封圈上的擠壓面積，避免了制絨后硅片上的兩條滾輪印的RENA制絨槽上滾輪裝置。

為解決上述技術問題，本申請采用的技術方案是：

一種RENA制絨槽上滾輪裝置，包括多個平行設置的上輪滾一和上輪滾二，單個上輪滾一上均勻設置有若干個定位部一，每個定位部一的中間位置設置有一個密封圈一，相鄰兩個密封圈一之間的距離為A，單個上輪滾二上均勻設置有若干個定位部二，每個定位部二的中間位置設置有一個密封圈二，相鄰兩個密封圈二之間的距離為B，且A大于或小于B。

所述單個上輪滾一上相鄰兩個密封圈一之間的距離A為150mm，單個上輪滾二上相鄰兩個密封圈二之間的距離B為155mm。

單個上輪滾一上相鄰兩個密封圈一之間的距離A為155mm，單個上輪滾二上相鄰兩個密封圈二之間的距離B為150mm。

本申請采用上述結構后，具有如下技術效果：

本申請結構在一定程度上分散了密封圈的擠壓面積，避免了制絨后的硅片上的兩條滾輪印，提高了產品質量。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1顯示了本申請所述現有技術的結構；

圖2顯示了本申請所述的結構；

圖中：1、上輪滾一；2、上輪滾二；3、定位部一；4、定位部二；5、密封圈一；6、密封圈二；1’、定位部；2’、密封圈；A為相鄰兩個密封圈一之間的距離；B為相鄰兩個密封圈二之間的距離。

具體實施方式

為使本申請的目的和技術方案更加清楚，下面將結合本申請實施例對本申請的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本申請的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于所描述的本申請的實施例，本領域普通技術人員在無需創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本申請保護的范圍。

如圖1所示，現有技術的制絨槽中相鄰上滾輪的定位部1’排布在同一條線上，定位部1’上的密封圈2’排布在同一條線上，這種技術的缺陷是，制絨槽中的硅片經過制絨槽進行化學腐蝕反應的時候，被密封圈2’擠壓的位置反應程度很小，導致制絨后的硅片在外觀上留下兩條滾輪印。

實施例1

如圖2所示，本申請所述一種RENA制絨槽上滾輪裝置，包括多個平行設置的上輪滾一1和上輪滾二2，單個上輪滾一1上均勻設置有若干個定位部一3，每個定位部一3的中間位置設置有一個密封圈一5，相鄰兩個密封圈一5之間的距離為A，單個上輪滾二2上均勻設置有若干個定位部二4，每個定位部二4的中間位置設置有一個密封圈二6，相鄰兩個密封圈二6之間的距離為B，且A大于或小于B。

實施例2

本實施例對實施例1進行改進，所述單個上輪滾一1上相鄰兩個密封圈一5之間的距離A為150mm，單個上輪滾二2上相鄰兩個密封圈二6之間的距離B為155mm。

實施例3

本實施例對實施例1進行改進，單個上輪滾一1上相鄰兩個密封圈一5之間的距離A為155mm，單個上輪滾二2上相鄰兩個密封圈二6之間的距離B為150mm。

本技術領域技術人員可以理解，除非另外定義，這里使用的所有術語（包括技術術語和科學術語）具有與本申請所屬領域中的普通技術人員的一般理解相同的意義。還應該理解的是，諸如通用字典中定義的那些術語應該被理解為具有與現有技術的上下文中的意義一致的意義，并且除非像這里一樣定義，不會用理想化或過于正式的含義來解釋。