[實用新型]一種觸控膜生產用的激光刻蝕系統

有效

• 申請號: 201520574768.X
• 申請日: 2015-07-31
• 公開（公告）號: CN204913061U
• 公開（公告）日: 2015-12-30
• 發明（設計）人: 劉彩風;潘中海;司榮美
• 申請（專利權）人: 天津寶興威科技有限公司
• 主分類號: B23K26/362
• 分類號: B23K26/362;B23K26/064;B23K26/03
• 代理公司: 天津市新天方有限責任專利代理事務所 12104
• 代理人: 張強

技術領域

本實用新型涉及激光加工領域，尤其涉及一種觸控膜生產用的激光刻蝕系統。

背景技術

目前，觸控膜在各行各業的應用越來越廣泛，手機、平板電腦、游戲機等形狀各異的產品對觸控膜刻蝕技術提出了更高的要求。傳統的化學刻蝕方法已經不能滿足加工精度的要求。

發明內容

為解決上述技術問題，本實用新型提供一種觸控膜生產用的激光刻蝕系統。

本實用新型所采取的技術方案：

一種觸控膜生產用的激光刻蝕系統包括計算機控制器、激光發射器、振鏡、CCD定位系統、F-Θ透鏡組、吸附平臺。所述計算機控制器的輸出端分別連接激光發射器的輸入端和CCD定位系統的輸入端，所述激光發射器的輸出端連接振鏡的輸入端，所述振鏡的輸出端連接F-Θ透鏡組的輸入端，所述F-Θ透鏡組的輸出端連接吸附平臺的輸入端，所述CCD定位系統的輸出端連接吸附平臺的輸入端。

本實用新型的有益效果：本實用新型采用一種觸控膜生產用的激光刻蝕系統，通過由計算機控制器控制激光發射器發出激光信號，激光信號經振鏡使光束發生偏轉，再經F-Θ透鏡組的聚焦形成焦點軌跡，同時由計算機控制器控制CCD定位系統，使其貼合焦點軌跡，當CCD定位系統和焦點軌跡重合時確定為本次刻蝕的定位軌跡，之后將觸控膜置于吸附平臺上，進行激光刻蝕。這樣使觸控膜的刻蝕更加精準。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

以下將結合本實用新型的實施例參照附圖進行詳細敘述。

具體實施方式

實施例1一種觸控膜生產用的激光刻蝕系統。

如圖1所示，一種觸控膜生產用的激光刻蝕系統包括計算機控制器、激光發射器、振鏡、CCD定位系統、F-Θ透鏡組、吸附平臺。所述計算機控制器的輸出端分別連接激光發射器的輸入端和CCD定位系統的輸入端，所述激光發射器的輸出端連接振鏡的輸入端，所述振鏡的輸出端連接F-Θ透鏡組的輸入端，所述F-Θ透鏡組的輸出端連接吸附平臺的輸入端，所述CCD定位系統的輸出端連接吸附平臺的輸入端。

使用時，由計算機控制器控制激光發射器發出激光信號，激光信號經振鏡使光束發生偏轉，再經F-Θ透鏡組的聚焦形成焦點軌跡，同時由計算機控制器控制CCD定位系統，使其貼合焦點軌跡，當CCD定位系統和焦點軌跡重合時確定為本次刻蝕的定位軌跡，之后將觸控膜置于吸附平臺上，進行激光刻蝕。