[實用新型]MOCVD石墨盤用石墨烤架有效
| 申請號: | 201520553730.4 | 申請日: | 2015-07-28 |
| 公開(公告)號: | CN204874730U | 公開(公告)日: | 2015-12-16 |
| 發明(設計)人: | 芮敏之 | 申請(專利權)人: | 美爾森先進石墨(昆山)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 昆山四方專利事務所 32212 | 代理人: | 盛建德;張小培 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | mocvd 石墨 烤架 | ||
1.一種MOCVD石墨盤用石墨烤架,以該石墨烤架的使用狀態為基準,該石墨烤架(1)包括呈相對設置的兩個豎向基板(10)、以及一用以承接MOCVD石墨盤的支撐單元,該支撐單元由第一支撐件和第二支撐件組成,且所述第一支撐件和第二支撐件相對稱的連接在兩個所述豎向基板(10)之間;其特征在于:兩個所述豎向基板(10)上分別貫穿開設有通氣孔(100);所述第一支撐件具有多個從上往下依次間隔排列的橫向條狀的第一支撐條(11),所述第二支撐件具有多個從上往下依次間隔排列的橫向條狀的第二支撐條(12),該多個第一支撐條(11)與該多個第二支撐條(12)相互對稱的連接在兩個所述豎向基板(10)之間;
呈相對稱布置的所述第一支撐條(11)與所述第二支撐條(12)還相對形成有一對傾斜面,每對傾斜面上對稱開設有多個間隔排列的卡槽(13),且分別位于每對傾斜面上并相對稱布置的兩卡槽的槽口還呈相對設置,分別位于每對傾斜面上并相對稱布置的兩卡槽的槽底內表面上還分別形成與該MOCVD石墨盤的圓周外側面形狀相吻合的非平面臺階狀結構。
2.根據權利要求1所述的MOCVD石墨盤用石墨烤架,其特征在于:兩個所述豎向基板(10)呈相互平行設置;
該多個第一支撐條(11)、以及該多個第二支撐條(12)皆分別相對于所述基板傾斜的連接在兩個所述豎向基板(10)之間;另外該多個第一支撐條(11)、以及該多個第二支撐條(12)還皆在同一弧形面上,且該弧形面的半徑與該MOCVD石墨盤的半徑相一致。
3.根據權利要求2所述的MOCVD石墨盤用石墨烤架,其特征在于:每一所述第一支撐條(11)長度方向的兩端分別通過螺絲可拆卸地鎖固連接在兩個所述豎向基板(10)上;
每一所述第二支撐條(12)長度方向的兩端亦分別通過螺絲可拆卸地鎖固連接在兩個所述豎向基板(10)上。
4.根據權利要求2所述的MOCVD石墨盤用石墨烤架,其特征在于:每一所述第一支撐條(11)朝向所述第二支撐條(12)的一側面上沿所述第一支撐條的長度方向間隔開設有多個所述卡槽(13),且位于所述第一支撐條(11)上的多個所述卡槽(13)皆為沿所述第一支撐條寬度方向延伸的U型槽;
每一所述第二支撐條(12)朝向所述第一支撐條(11)的一側面上沿所述第二支撐條的長度方向間隔開設有多個所述卡槽(13),且位于所述第二支撐條(12)上的多個所述卡槽(13)皆為沿所述第二支撐條寬度方向延伸的U型槽;
另外位于所述第一支撐條(11)上的多個U型槽的槽口與位于所述第二支撐條(12)上的多個U型槽的槽口呈相對設置。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





