[實用新型]一種單層真空鎖氣室

有效

• 申請號: 201520549768.4
• 申請日: 2015-07-27
• 公開（公告）號: CN204824976U
• 公開（公告）日: 2015-12-02
• 發明（設計）人: 范本龍;范本良;王月琴;李開來
• 申請（專利權）人: 浙江鼎誠爐業科技有限公司
• 主分類號: C21D1/773
• 分類號: C21D1/773
• 代理公司: 浙江英普律師事務所 33238
• 代理人: 陳小良

技術領域

本實用新型涉及一種熱處理爐裝置，特別是一種單層真空鎖氣室。

背景技術

真空熱處理爐為了保證爐內氣氛的純度和爐壓的穩定，爐體需設置真空鎖氣室作為過渡，在進料和出料過程中，讓工件停留在真空室內，預抽真空再沖入氮氣后方可進爐或出爐，因此真空鎖氣室的密封裝置必須在高溫工作環境下長時間穩定工作，以保證真空鎖氣室能夠保持所要求的極限真空度。

現有真空鎖氣室的密封門提升多通過電機與絲桿配合而密封靠密封門自身重力實現，但是電機與絲桿在100-200℃甚至更高的溫度中表現不夠穩定，特別是絲桿在高溫環境下會產生不同程度的形變，在提門過程中受力不均而使密封門傾斜導致無法提升或密封，若長期形變未及時維修甚至會發生斷裂產生嚴重的安全生產事故，因此部分真空鎖氣室開始使用氣缸替代電機，但氣缸本身為潛在的漏氣源，在使用時需消除氣缸的漏氣可能而不影響提門裝置的性能。另外，密封門在高溫環境下也會發生部分形變，僅靠重力不能保證真空鎖氣室的密封，因此需要一種可靠的壓門裝置與之配合實現進一步密封。

發明內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種由氣缸提供控制動力的單層真空鎖氣室，即使氣缸發生漏氣仍能保證氣體不進入真空鎖氣室，且該真空鎖氣室運行穩定、使用壽命長、保持真空度效果好。

本實用新型解決上述技術問題所采用的技術方案：

一種單層真空鎖氣室，包括鎖氣室、爐殼、提門裝置和壓門裝置，所述鎖氣室包括傳送裝置和密封裝置，其特征在于：所述提門裝置和壓門裝置設置在鎖氣室外的爐殼上；所述提門裝置包括提門氣缸、提門軸和提門連接件，所述提門氣缸連接并驅動提門軸，提門軸上設有提門連接件，提門連接件連接所述密封裝置；所述壓門裝置包括壓門氣缸、壓門軸和壓門輪，所述壓門氣缸連接并驅動壓門軸，壓門軸連接壓門輪，壓門輪于工作時頂壓所述密封裝置。耐高溫氣缸可在500℃甚至更高溫度下保持長時間正常工作，且氣缸行程固定不會因連接件形變而發生電機或設備損毀的情況；而提門裝置中氣缸外置通過傳動件控制密封裝置，即使氣缸發生泄漏也可直接或通過爐殼向外排出而不會進入鎖氣室，提門軸保證一個氣缸帶動多個連接件同步運動；壓門裝置中通過壓門軸和壓門輪進行壓緊，壓力更集中且可根據壓力大小微調壓緊位置，壓緊效果好且不易損壞，提高了真空鎖氣室運行穩定性且保持真空度效果好。

作為優選，所述提門連接件包括提門鏈輪和提門鏈條，所述提門連接件通過提門鏈輪設置在提門軸上。鏈條相比其他連接件在高溫下形變小，且鏈條為軟連接，當多個連接件同時控制一個密封裝置時同步性好，不會因連接件間不同程度的形變導致密封裝置傾斜，從而保證工作過程中多個連接件受力更為均勻不易斷裂。

進一步地，所述每個提門裝置包括至少兩個提門連接件，提門連接件間平行設置并延密封裝置縱向中心線對稱設置。兩個及以上對稱設置的連接件使密封裝置在運行過程中更為平穩。

作為優選，所述密封裝置兩側設置有導向輪，所述爐殼上設置有與導向輪相配合的導軌。導向輪和導軌的配合使密封裝置在運行過程中更為平穩，密封時定位更為準確。

作為優選，所述壓門裝置還包括氣缸拉桿，氣缸拉桿一端連接壓門氣缸，另一端連接壓門軸。氣缸拉桿的設置使壓門輪的力矩變大，壓緊效果更佳。

進一步地，所述壓門裝置包括兩組相同的氣缸拉桿、壓門軸和壓門輪，兩組氣缸拉桿、壓門軸和壓門輪延密封裝置橫向中心線對稱設置。兩組對稱設置的相同氣缸拉桿、壓門軸和壓門輪使密封裝置不會因受力不均而發生密封松脫的情況。

進一步地，所述壓門裝置包括兩個相同的壓門氣缸，所述每個壓門氣缸各連接一組氣缸拉桿、壓門軸和壓門輪并延密封裝置橫向中心線對稱設置。兩個相同的壓門氣缸帶動兩組相同的壓門裝置壓緊效果好且易于控制。

作為優選，所述傳送裝置為托輥，托輥間設置有信號軸。工件與托輥沒有固定的接觸點，因此加熱均勻，且可以在托輥間設置信號軸便于精準控制開門關門時間進而減少氣體流入鎖氣室。

作為優選，所述密封裝置為硅橡膠密封門。硅橡膠耐高溫，具有一定的柔韌性和回彈性，壓緊后密封效果好。

本實用新型同現有技術相比具有以下優點及效果：通過氣缸、提門軸、提門鏈輪和提門鏈條組成的提門裝置在高溫下運行穩定，配合壓門氣缸、氣缸拉桿、壓門軸和壓門輪使密封裝置在閉合時真空鎖氣室保持真空度效果好；提門裝置和壓門裝置中部件的設置進一步提升了裝置運行時的穩定性而托輥、信號軸和硅橡膠密封門等裝置改善了真空鎖氣室中的工作環境。

附圖說明