[實(shí)用新型]一種陽光下可視的蓋板鍍膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201520543685.4
• 申請日: 2015-07-26
• 公開（公告）號: CN204790045U
• 公開（公告）日: 2015-11-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王衛(wèi)國;其他發(fā)明人請求不公開姓名
• 申請（專利權(quán)）人: 王衛(wèi)國
• 主分類號: G02B1/115
• 分類號: G02B1/115;G02B1/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光學(xué)鍍膜領(lǐng)域，具體的說就是通過鍍膜消除視窗蓋板表面的反射光，實(shí)現(xiàn)陽光下清晰可視。

背景技術(shù)

目前用于手機(jī)、平板電腦、可穿戴設(shè)備等視窗蓋板的材料品種、性能日新月異。但在陽光下反射強(qiáng)烈，致使顯示圖像的目視性變差的問題始終困擾著人們。為了解決這一問題，申請?zhí)?015103895465闡述了一種陽光下可視的蓋板鍍膜。但是，在實(shí)際生產(chǎn)過程中，此方法有一定的局限性。比如：氮化硅與氧化硅交替生成，而氮化物的吸收問題一直不能很好解決，使得膜層有滲透，再者，使400-700nm波長的光線反射率平均在0.5%雖說已經(jīng)有長足進(jìn)步，但仍有大的進(jìn)步空間。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型是在基板上，通過基板超聲波清洗工藝、濺射、蒸發(fā)或噴涂鍍膜工藝、光學(xué)膜層射頻前處理工藝、光學(xué)膜層打底工藝、光學(xué)膜層應(yīng)力匹配工藝、在基板的上表面形成本實(shí)用新型所述薄膜。

本實(shí)用新型由TiO₂、SiO₂交替疊加而成。由于采用TiO₂，避免使用氮化物，巧妙避開了氮化物的吸收問題。通過本實(shí)用新型，能使400-700nm波長的光線反射率平均達(dá)到0.15%，至此，蓋板反射光問題得到了較為徹底的解決。

現(xiàn)有技術(shù)的描述

提高屏幕亮度，增加屏幕對比度，這些技術(shù)雖然都能提高可視效果，但同時帶來很明顯的副作用：增加能耗，損傷眼睛。還有傳統(tǒng)抗眩光顯示屏玻璃多采用氫氟酸蝕刻的方法生產(chǎn)，存在良品率低，對人體及環(huán)境有害等缺點(diǎn)，同時陽光下的可視效果不明顯。申請?zhí)?015103895465闡述了一種陽光下可視的蓋板鍍膜，使400-700nm波長的光線反射率平均在0.5%。

新技術(shù)的描述

本實(shí)用新型公開一種在陽光下可視的蓋板鍍膜，其特征在于：在白板玻璃基板上的薄膜12，從內(nèi)向外依次排列的厚度為13.2納米的TiO₂層，厚度為32.2納米的SiO₂層，厚度為121.3納米的TiO₂層，厚度為37.2納米的SiO₂層，厚度為24.5納米的TiO₂層，厚度為39.4納米的SiO₂層,厚度為113納米的TiO₂層，厚度為86.4納米的SiO₂層。在藍(lán)寶石基板上的薄膜12，從內(nèi)向外依次排列厚度為15.1納米的TiO₂層，厚度為25.9納米的SiO₂層，厚度為124.9納米的TiO₂層，厚度為33.1納米的SiO₂層，厚度為27納米的TiO₂層，厚度為35.5納米的SiO₂層,厚度為114.3納米的TiO₂層，厚度為86.6納米的SiO₂層。本實(shí)用新型在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上，采用精密制造工藝，交替疊加TiO₂、SiO₂膜層使400-700nm波長的光線反射率平均在0.15%以下，明顯提高了在陽光下的可視度，效果極其明顯。同時通過基板超聲波清洗工藝、濺射、蒸發(fā)或噴涂鍍膜工藝、光學(xué)膜層射頻前處理工藝、光學(xué)膜層打底工藝、光學(xué)膜層應(yīng)力匹配工藝、在基板的上表面形成本實(shí)用新型所述薄膜。本實(shí)用新型所述薄膜還具有超強(qiáng)硬度＞9H，具有很好的抗劃傷作用。解決了視窗玻璃易劃傷，透過率低影響使用效果的難題。通過檢測滿足GB-T6739-2006、JISK5600-5-4、ISO/DIN15184對膜層硬度最高9H的評價指標(biāo)。經(jīng)過長期使用實(shí)驗(yàn)證明，膜層堅硬牢固。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：11是基板，12是薄膜

圖2是在白板玻璃基板上鍍膜得到的反射率光譜圖

圖3是在藍(lán)寶石基板上鍍膜得到的反射率光譜圖

具體實(shí)施方式

實(shí)施例1