[實(shí)用新型]常溫多層ITO柔性基材單鼓立式連續(xù)氣相沉積設(shè)備系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201520532476.X | 申請(qǐng)日: | 2015-07-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN205011827U | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-02-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 莊志杰;周鈞;劉戰(zhàn)合 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 賽柏利安工業(yè)技術(shù)(蘇州)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/08 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/08;C23C14/56 |
| 代理公司: | 江蘇銀創(chuàng)律師事務(wù)所 32242 | 代理人: | 王紀(jì)營(yíng) |
| 地址: | 215024 江蘇省蘇州市蘇州*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 常溫 多層 ito 柔性 基材 立式 連續(xù) 沉積 設(shè)備 系統(tǒng) | ||
1.一種常溫多層ITO柔性基材單鼓立式連續(xù)氣相沉積設(shè)備系統(tǒng),其特征在于:所述常溫多層ITO柔性基材單鼓立式連續(xù)氣相沉積設(shè)備系統(tǒng)包括薄膜真空沉積系統(tǒng)和自控卷繞系統(tǒng);
所述薄膜真空沉積系統(tǒng)包括兩個(gè)分隔開(kāi)的相互獨(dú)立的低真空度腔體和高真空度腔體,所述低真空度腔體與高真空度腔體之間設(shè)置有隔板;
所述薄膜真空沉積系統(tǒng)與所述自控卷繞系統(tǒng)之間設(shè)置有卷繞機(jī)隔板;
所述自控卷繞系統(tǒng)包括卷繞機(jī)底座和自動(dòng)控制機(jī)構(gòu),所述卷繞機(jī)底座上設(shè)置有多層分開(kāi)的放料機(jī)構(gòu)、自控張緊機(jī)構(gòu)、同步卷繞機(jī)構(gòu)、立式單鼓機(jī)構(gòu)和收料機(jī)構(gòu);
所述放料機(jī)構(gòu)、自控張緊機(jī)構(gòu)、同步卷繞機(jī)構(gòu)、立式單鼓機(jī)構(gòu)、收料機(jī)構(gòu)均與自動(dòng)控制機(jī)構(gòu)相連接;
所述放料機(jī)構(gòu)為放料輥和放料及分開(kāi)系統(tǒng),所述收料機(jī)構(gòu)為收料復(fù)合機(jī)構(gòu)和收料輥;所述低真空度腔體和高真空度腔體內(nèi)均設(shè)置有各自獨(dú)立的相互分開(kāi)的真空抽氣系統(tǒng);所述放料及分開(kāi)系統(tǒng)、立式單鼓機(jī)構(gòu)、同步卷繞機(jī)構(gòu)、收料復(fù)合機(jī)構(gòu)上均設(shè)置有各自獨(dú)立的同步驅(qū)動(dòng)系統(tǒng);
所述低真空度腔體設(shè)置有可沿著水平軌道開(kāi)合的第一移動(dòng)門(mén),所述高真空度腔體裝設(shè)有第二移動(dòng)門(mén),所述低真空腔體內(nèi)設(shè)置有可視實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫多層ITO柔性基材單鼓立式連續(xù)氣相沉積設(shè)備系統(tǒng),其特征在于:所述立式單鼓機(jī)構(gòu)上設(shè)置有立式單鼓,所述高真空度腔體內(nèi)圍繞著立式單鼓周?chē)剂硕鄬?duì)立式中頻平面的非平衡陰極,每對(duì)非平衡陰極均設(shè)置有自隔氣的整體式的封閉屏蔽罩和各自獨(dú)立的供氣機(jī)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫多層ITO柔性基材單鼓立式連續(xù)氣相沉積設(shè)備系統(tǒng),其特征在于:所述自控卷繞系統(tǒng)內(nèi)部設(shè)置有表面處理機(jī)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫多層ITO柔性基材單鼓立式連續(xù)氣相沉積設(shè)備系統(tǒng),其特征在于:所述自控卷繞系統(tǒng)內(nèi)部設(shè)置有對(duì)分開(kāi)后各層ITO柔性基材的卷繞進(jìn)程有實(shí)時(shí)同步的自動(dòng)糾偏機(jī)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的常溫多層ITO柔性基材單鼓立式連續(xù)氣相沉積設(shè)備系統(tǒng),其特征在于:所述自控卷繞系統(tǒng)的立式單鼓內(nèi)還設(shè)置有薄膜沉積時(shí)的鼓表面的溫度控制機(jī)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的常溫多層ITO柔性基材單鼓立式連續(xù)氣相沉積設(shè)備系統(tǒng),其特征在于:所述第二移動(dòng)門(mén)通過(guò)鉸鏈與高真空度腔體鉸接連接。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





