[實用新型]塑料件金屬陶瓷化磁控濺射鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201520525610.3
• 申請日: 2015-07-20
• 公開（公告）號: CN204959024U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發明（設計）人: 林晶;錢鋒
• 申請（專利權）人: 林晶
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種塑料件金屬陶瓷化磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于它包括真空計、工件轉架、多弧靶、充氣管、真空室、截止閥、質量流量計、截流閥、維持閥、低真空泵組、擴散泵、粗抽閥、冷阱、精抽閥、偏壓裝置、平面磁控靶和圓柱磁控靶，真空計和多弧靶安裝在真空室上，工件轉架、充氣管、平面磁控靶和圓柱磁控靶設置在真空室內部，偏壓裝置連接工件轉架，充氣管連接截止閥，截止閥連接質量流量計，真空室連接截流閥，截流閥分別連接粗抽閥和精抽閥，粗抽閥連接低真空泵組，精抽閥連接冷阱，冷阱連接擴散泵，低真空泵組和擴散泵通過維持閥連接。

2.根據權利要求1所述的塑料件金屬陶瓷化磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于所述的多弧靶對稱安裝在真空室兩側。