[實(shí)用新型]電子束快速成型設(shè)備特征點(diǎn)數(shù)據(jù)采集裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520512100.2
• 申請(qǐng)日: 2015-07-15
• 公開（公告）號(hào): CN204771118U
• 公開（公告）日: 2015-11-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 韋壽祺;黃小東;秦玉江;覃胤鴻;劉新才
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 桂林獅達(dá)機(jī)電技術(shù)工程有限公司
• 主分類號(hào): B23K15/00
• 分類號(hào): B23K15/00;B23K37/00;B23K15/02
• 代理公司: 桂林市持衡專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 45107
• 代理人: 陳躍琳

1.電子束快速成型設(shè)備特征點(diǎn)數(shù)據(jù)采集裝置，其特征是，包括置于真空工作室(3)內(nèi)的測試板(3-1)、二次反射電子收集裝置(3-2)和二次反射電子流檢測電阻(3-3)，以及置于真空工作室(3)外的對(duì)中信號(hào)變送器(8)和對(duì)中信號(hào)指示器(9)；

測試板(3-1)由金屬板制成，測試板(3-1)上標(biāo)定偏掃區(qū)域，并對(duì)偏掃區(qū)域按一定規(guī)律分區(qū)，以各特征點(diǎn)為圓心，開鉆特征點(diǎn)通孔，該特征點(diǎn)通孔的孔徑與電子束流的斑點(diǎn)直徑相當(dāng)；測試板(3-1)與真空工作室(3)壁電氣相接即接地；

二次反射電子收集裝置(3-2)位于測試板(3-1)的上方，電子束快速成型設(shè)備的電子槍(1)發(fā)出的電子束(2)直接穿過二次反射電子收集裝置(3-2)到達(dá)測試板(3-1)；電子束流參數(shù)一定時(shí)，電子束斑在測試板(3-1)某一特征點(diǎn)附近移動(dòng)，二次反射電子收集裝置(3-2)收集到的二次反射電子流發(fā)生變化，當(dāng)電子束斑位于特征點(diǎn)正中，且電子束斑的焦點(diǎn)位于測試板(3-1)上表面時(shí)，二次反射電子收集裝置(3-2)的二次反射電子流最小；二次反射電子收集裝置(3-2)通過二次反射電子流檢測電阻(3-3)與真空工作室(3)壁電氣相接即接地；

二次反射電子流檢測電阻(3-3)將二次反射電子收集裝置(3-2)收集到的二次反射電子流轉(zhuǎn)換成電壓信號(hào)；該電壓信號(hào)作為電子束斑與特征點(diǎn)對(duì)中判斷信號(hào)，被送到對(duì)中信號(hào)變送器(8)；

對(duì)中信號(hào)變送器(8)將二次反射電子流檢測電阻(3-3)上的電壓信號(hào)放大后送到對(duì)中信號(hào)指示器(9)；

對(duì)中信號(hào)指示器(9)顯示對(duì)中信號(hào)變送器(8)送來的電壓信號(hào)，在對(duì)x軸偏移電流、y軸偏移電流及聚焦電流進(jìn)行微調(diào)的過程中，電子束斑在某特征點(diǎn)附近移動(dòng)，當(dāng)對(duì)中信號(hào)指示器(9)顯示的電壓信號(hào)值為最小時(shí)，判定對(duì)中檢測信號(hào)達(dá)到最佳，此時(shí)電子束斑點(diǎn)中心與該特征點(diǎn)中心重合，且焦點(diǎn)位于測試板(3-1)的上平面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束快速成型設(shè)備特征點(diǎn)數(shù)據(jù)采集裝置，其特征是，所述二次反射電子收集裝置(3-2)為一金屬梯形罩體，該金屬梯形罩體的上底面和下底面貫通。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束快速成型設(shè)備特征點(diǎn)數(shù)據(jù)采集裝置，其特征是，所述測試板(3-1)的掃描區(qū)域的厚度小于10mm，且特征點(diǎn)通孔的孔徑小于2mm。

4.電子束快速成型設(shè)備特征點(diǎn)數(shù)據(jù)采集裝置，其特征是，包括置于真空工作室(3)內(nèi)的測試板(3-1)、穿越電子收集裝置(3-4)和穿越電子流檢測電阻(3-5)，以及置于真空工作室(3)外的對(duì)中信號(hào)變送器(8)和對(duì)中信號(hào)指示器(9)；

測試板(3-1)由金屬板制成，測試板(3-1)上標(biāo)定偏掃區(qū)域，并對(duì)偏掃區(qū)域按一定規(guī)律分區(qū)，以各特征點(diǎn)為圓心，開鉆特征點(diǎn)通孔，該特征點(diǎn)通孔的孔徑與電子束流的斑點(diǎn)直徑相當(dāng)；測試板(3-1)與真空工作室(3)壁電氣相接即接地；

穿越電子收集裝置(3-4)位于測試板(3-1)的正下方，且覆蓋測試板(3-1)上標(biāo)定的偏掃區(qū)域，電子束快速成型設(shè)備的電子槍(1)發(fā)出的電子束(2)穿過測試板(3-1)上的特征點(diǎn)通孔后到達(dá)穿越電子收集裝置(3-4)；電子束流參數(shù)一定時(shí)，電子束斑在測試板(3-1)某一特征點(diǎn)附近移動(dòng)，穿越電子收集裝置(3-4)收集到的穿越測試板(3-1)特征點(diǎn)通孔的電子束流發(fā)生變化，當(dāng)電子束斑位于特征點(diǎn)正中，且電子束斑的焦點(diǎn)位于測試板(3-1)上表面時(shí)，穿越電子束最大；穿越電子收集裝置(3-4)通過穿越電子流檢測電阻(3-5)與真空工作室(3)壁電氣相接即接地；

穿越電子流檢測電阻(3-5)將穿越電子收集裝置(3-4)收集到的穿越電子流轉(zhuǎn)換成電壓信號(hào)；該電壓信號(hào)作為電子束斑與特征點(diǎn)對(duì)中判斷信號(hào)，被送到對(duì)中信號(hào)變送器(8)；

對(duì)中信號(hào)變送器(8)將穿越電子流檢測電阻(3-5)上的電壓信號(hào)放大后送到對(duì)中信號(hào)指示器(9)；

對(duì)中信號(hào)指示器(9)顯示對(duì)中信號(hào)變送器(8)送來的電壓信號(hào)，在對(duì)x軸偏移電流、y軸偏移電流及聚焦電流進(jìn)行微調(diào)的過程中，電子束斑在某特征點(diǎn)附近移動(dòng)，當(dāng)對(duì)中信號(hào)指示器(9)顯示的電壓信號(hào)值為最大時(shí)，判定對(duì)中檢測信號(hào)達(dá)到最佳，此時(shí)電子束斑點(diǎn)中心與該特征點(diǎn)中心重合，且焦點(diǎn)位于測試板(3-1)的上平面。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子束快速成型設(shè)備特征點(diǎn)數(shù)據(jù)采集裝置，其特征是，所述穿越電子收集裝置(3-4)為一金屬平板。