[實用新型]光學檢測設備有效
| 申請號: | 201520490821.8 | 申請日: | 2015-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN204882389U | 公開(公告)日: | 2015-12-16 |
| 發明(設計)人: | 李建志 | 申請(專利權)人: | 漢克科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/88 | 分類號: | G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京天平專利商標代理有限公司 11239 | 代理人: | 孫剛 |
| 地址: | 中國臺灣新北*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 檢測 設備 | ||
技術領域
本實用新型有關于一種光學檢測設備,特別是指一種用以檢測鏡面瑕疵的光學檢測設備。
背景技術
鏡面材質的產品在現代生活中隨處可見,例如液晶電視、手機熒幕或是其他光學鏡面等,應用范圍相當廣泛。在鏡面材質的制程中,最關鍵的一環便是檢測鏡面的瑕疵,因為若未能及時將有瑕疵的鏡面物件篩選出來而繼續與其他零件進行組裝作業,將導致大量的劣質品產生,不僅降低產線的良率,也會造成制造者巨大的財務損失及時間、人力的浪費。所謂的鏡面瑕疵,例如灰塵、刮痕、水痕、殘膠或亮點等,目前的自動化生產線都會配置瑕疵檢測設備,以便減少或取代耗時又費力的人工檢測,藉以提升產品的檢測速度及制程良率。
習知的檢測設備,將一待測物放置于一檢測臺上,并對該待測物提供一上方及下方光源,用以對待測物進行補光,再經由設置于該待測物上方的一攝像機拍攝以取得一瑕疵影像,將該瑕疵影像經過處理分析后取得瑕疵的對應位置,藉以將待測物依據取得的瑕疵種類的不同分為良品、瑕疵品、NG品,對可修復的NG品進行補修作業,藉以提升產品的良率。然而,本實用新型創作人發現,習知的檢測設備于高光環境下對待測物進行拍攝,可能因為不同瑕疵對于高光源的反應不同,導致無法取得所有的瑕疵點,進而出現誤判情況而影響產線良率。
實用新型內容
基于本實用新型創作人發現上述習知技術中存在的問題,本實用新型的目的在于提供一種光學檢測設備,以解決習知技術中于高光環境下對待測物進行拍攝而無法取得所有瑕疵點的問題。
為了解決上述問題,本實用新型公開了一種光學檢測設備,其特征在于包含有:
一檢測平臺,具有一供待測物放置的擺設平面;
一攝像單元,設置于該擺設平面的一側,該攝像單元的拍攝方向與該待測物的表面之間的夾角為一銳角以對該待測物的表面取像;
一平面光源,包含有至少一由多個發光元件排列而成的發光陣列,以及一設置于該發光陣列一側使光源大面積均勻照射于該待測物上的導光板,該平面光源設置于該擺設平面的相對于該攝像單元的另一側;以及
一包含有一啟動該平面光源并藉由該攝像單元拍攝取得該待測物的第一瑕疵分布的第一取像狀態以及一關閉該平面光源并藉由該攝像單元拍攝取得該待測物的第二瑕疵分布的第二取像狀態而過濾出該待測物瑕疵的取像指示器。
其中,該平面光源不與該待測物重疊設置。
其中,更進一步包含有一載置該攝像單元并依據該待測物的大小移動位置以對該待測物的取像的活動載臺。
其中,更進一步包含有一正向光源,該正向光源設置于該檢測平臺的上方或下方以照射放置于該檢測平臺上的該待測物。
還公開了一種光學檢測設備,其特征在于包含有:
一第一檢測站,包含有:
一第一檢測平臺,具有一供待測物放置的擺設平面;
一第一攝像單元,設置于該第一檢測平臺的擺設平面的一側,該第一攝像單元的拍攝方向與該待測物的表面之間的夾角為一銳角以對該待測物的表面取像;
一平面光源,包含有至少一由多個發光元件排列而成的發光陣列,以及一設置于該發光陣列一側使光源大面積均勻照射于該待測物上的導光板,該平面光源設置于該擺設平面的相對于該攝像單元的另一側;以及
一包含有一啟動該平面光源并藉由該第一攝像單元拍攝取得該待測物的第一瑕疵分布的第一取像狀態而過濾出該待測物瑕疵的第一取像指示器;
一第二檢測站,包含有:
一第二檢測平臺,具有一供該待測物放置的擺設平面;
一第二攝像單元,設置于該第二檢測平臺的擺設平面的一側,該第二攝像單元的拍攝方向與該待測物的表面之間的夾角為一銳角以對該待測物的表面取像;以及
一藉由該第二攝像單元拍攝取得該待測物的第二瑕疵分布的第二取像狀態而過濾出該待測物瑕疵的第二取像指示器。
其中,該平面光源不與該待測物重疊設置。
其中,更進一步包含有一載置該第一攝像單元并依據該待測物的大小移動位置以對該待測物的取像的第一活動載臺。
其中,更進一步包含有一載置該第二攝像單元并依據該待測物的大小移動位置以對該待測物的取像的第二活動載臺。
其中,更進一步包含有一正向光源,該正向光源系設置于該第二檢測平臺的上方或下方以照射放置于該第二檢測平臺上的該待測物。
是以,本實用新型比習知技術具有以下的優勢功效:
1.本實用新型系藉由對于不同照度環境下的待測物進行取像,進而過濾出待測物所有瑕疵的位置。
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