[實用新型]一種無需酸堿的CIP清洗系統

有效

• 申請號: 201520469107.0
• 申請日: 2015-07-02
• 公開（公告）號: CN204866686U
• 公開（公告）日: 2015-12-16
• 發明（設計）人: 楊井國
• 申請（專利權）人: 楊井國
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;B08B3/08;A61L2/03
• 代理公司: 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙) 11411
• 代理人: 黃冠華

技術領域

本實用新型涉及一種清洗系統，尤其涉及一種無需酸堿的CIP清洗系統。

背景技術

CIP是英文Clean-In-Place的縮寫，即就地清洗或稱為原位清洗,其定義為不拆卸設備或元件,在密閉的條件下,用一定溫度和濃度的清洗液對清洗裝置加以強力作用,使與食品接觸的表面洗凈和殺菌的方法。目前，在線清洗技術已經在食品、飲料、制藥和生物技術、化妝品工藝中得到越來越廣泛的應用，可以確保去除工藝殘留物，減少污染菌，確保不同生產過程段與段之間的隔離。CIP系統最初于五十年代在美國的乳品工業得到應用,1955年CIP系統與自動控制技術相結合,使其在食品工業的其它領域得以應用。

根據清洗液的使用方式可以將CIP分為以下三種類型：

(1)清洗劑單次使用的CIP系統(single-useCIPsystems)；

(2)清洗劑重復使用的CIP系統(reuseCIPsystems)；

(3)清洗劑多次使用的CIP系統(multi-useCIPsystems)；

一般的清洗過程首先需要將污物從被清洗表面分離,再將此污物在清洗液中分散形成一種穩定的懸浮狀態,并防止污物重新沉淀在被清洗物的表面上。在自然界,污物分離的過程是頗為復雜的,不是一種單一的化學品就能達此目的。實際,都是幾種清洗劑混合使用。

目前CIP清洗的清洗劑主要有：

(1)中性清洗劑：水和界面活性劑均屬此類。水幾乎是所有清洗劑和食品的基本成分,當污物為完全可溶時,就不需要其他清洗劑而能清洗干凈；

(2)酸性清洗劑：酸性清洗劑是用以溶解設備表面礦物質沉積物,如鈣鎂的沉積物、硬水積石、啤酒積石、牛乳積石和草酸鈣等。常使用的無機酸為硝酸、磷酸、硫酸；有機酸為醇酸、葡萄糖酸和檸檬酸,乳酸和酒酸性清洗劑不受CO2的影響,比NaOH容易過水,可以冷清洗。使用合成的酸性清洗劑還具有抑制酵母和霉菌的作用；

(3)堿性清洗劑：堿性清洗劑是食品工廠使用最廣泛的清洗劑。堿與脂肪結合形成肥皂，與蛋白質形成可溶性物質而易于被水清除。最常用的堿為氫氧化鈉(NaOH),氫氧化鉀(KOH)等,NaOH的缺點是很難過水,過水時要沖洗很長時間。但是,由于NaOH的清洗效果是NaHCO3的4倍,且在適當的溫度下具有殺菌效果,因而得到最廣泛的應用。其他堿性清洗劑有碳酸鈉、碳酸氫鈉、原硅酸鈉甲基硅酸鈉、磷酸三鈉等。

(4)消毒劑：一些化學藥品可作為CIP過程的消毒劑。如次氯酸鹽、碘化物、穩定性二氧化氯、酸性陰離子表面活性劑等等。在消毒設備時必須對設備和管路進行徹底的清洗。如果設備表面有食品殘渣或污物存在,消毒劑的效力將會大大降低。

與傳統的手工拆卸機器零件的清洗方式相比，CIP的優點主要有:(1)能維持一定的清洗效果,保證產品的安全性；(2)節約操作時間、提高效率,以實現商業的最大利潤；(3)節省勞動力,保證操作的安全性；(4)節省清洗用水和蒸汽。

但是，目前CIP清洗系統也存在有以下缺點：

目前的CIP清洗系統，不管清洗劑是單次使用還是重復多次使用，為了達到清洗目的，必須要加酸、堿，一般是酸堿洗滌劑中的酸是指1％—2％硝酸溶液，堿指1％—3％氫氧化鈉在65℃—80℃使用。滅菌劑為經常使用的氯系殺菌劑，如次亞氯酸鈉等。

由于使用過程中有強酸、強堿，使用具有一定危險性，對皮膚有較強的刺激性；水洗性差。而且清洗過程中酸堿是否完全中和難以判斷，造成環境的污染。重復、多次使用的CIP清洗系統可以減少酸堿的使用量，但是清洗系統復雜，設備投資大。滅菌劑有特殊味道；需要一定的儲存條件；不同濃度殺菌效果區別大；氣溫低時易凍結；用法不當會產生副作用；混入污物殺菌效果明顯下降；灑落時易沾污環境并留有痕跡。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是克服現有技術的缺陷，提供一種無需酸堿的CIP清洗系統，其能夠不使用酸和堿對待清洗設備進行清洗，清洗效果好，清洗后產生的不良作用小。

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了如下的技術方案：

本實用新型一種無需酸堿的CIP清洗系統，其包括控制裝置、電解水發生裝置、純水箱、強酸水箱和強堿水箱；所述強酸水箱和所述強堿水箱分別通過管道與所述電解水發生裝置連通；所述純水箱和電解水發生裝置均通過管道連接純水進水口；所述純水箱、強酸水箱和強堿水箱的底部均通過管道連接有動力裝置，所述動力裝置的另一端連接待清洗設備；所述純水箱、強酸水箱和強堿水箱的底部均設置有自控閥門。