[實用新型]壓力平衡三維微調(diào)機(jī)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520453372.X | 申請日: | 2015-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN204997331U | 公開(公告)日: | 2016-01-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王偉國;王修寶;竇英元;丁永強(qiáng);范佰濤;任軼;魏大勇 | 申請(專利權(quán))人: | 北京航天動力研究所;北京航天石化技術(shù)裝備工程公司 |
| 主分類號: | B23P19/10 | 分類號: | B23P19/10 |
| 代理公司: | 核工業(yè)專利中心 11007 | 代理人: | 包海燕 |
| 地址: | 100076 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 壓力 平衡 三維 微調(diào) 機(jī)構(gòu) | ||
1.一種壓力平衡三維微調(diào)機(jī)構(gòu),包括臺面組件(10),其特征在于:還包括斜面副(8)和滑動平面副(3),斜面副(8)用于對臺面組件(10)上安裝的設(shè)備進(jìn)行高低Z方向調(diào)節(jié),滑動平面副(3)用于對臺面組件(10)上安裝的設(shè)備進(jìn)行水平X、Y方向調(diào)節(jié);
所述滑動平面副(3)自上而下包括滑板(2)和基礎(chǔ)組件(1),滑板(2)下平面與基礎(chǔ)組件(1)上平面相貼合;基礎(chǔ)組件(1)上平面設(shè)有若干個凹面(5),凹面(5)內(nèi)部通入流體介質(zhì),通過調(diào)節(jié)流體介質(zhì)壓力使每個凹面(5)產(chǎn)生的壓力與該處對應(yīng)的設(shè)備的重力分力相平衡,進(jìn)而使滑板(2)處于懸浮狀態(tài),實現(xiàn)水平X、Y方向的調(diào)整力達(dá)到最小;
所述斜面副(8)包括動斜鐵(7)、定斜鐵(6)及調(diào)整機(jī)構(gòu)II(13);定斜鐵(6)為一楔形鐵塊,其固定于滑動平面副(3)的滑板(2)上方;動斜鐵(7)也為一楔形鐵塊,能夠在臺面組件(10)與定斜鐵(6)之間沿X方向水平運動;調(diào)整機(jī)構(gòu)II(13)與動斜鐵(7)相連接,用于推拉動斜鐵(7)在臺面組件(10)與定斜鐵(6)之間運動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓力平衡三維微調(diào)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述凹面(5)周圍設(shè)有與凹面(5)形狀相匹配的密封圈(4)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓力平衡三維微調(diào)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述調(diào)整機(jī)構(gòu)II(13)通過手動螺桿機(jī)構(gòu)或電、氣、液動螺桿機(jī)構(gòu)實現(xiàn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓力平衡三維微調(diào)機(jī)構(gòu),其特征在于:滑動平面副(3)還設(shè)有調(diào)整機(jī)構(gòu)I(9),用于調(diào)整滑板(2)X、Y方向位移。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓力平衡三維微調(diào)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述基礎(chǔ)組件(1)對應(yīng)臺面組件(10)的集中力作用處附近設(shè)置若干套反蠕變力預(yù)置機(jī)構(gòu)(12),反蠕變力預(yù)置機(jī)構(gòu)(12)將流體介質(zhì)的壓力轉(zhuǎn)換為反蠕變預(yù)置力作用于臺面組件(10)上,調(diào)節(jié)流體介質(zhì)的壓力使其剛好抵消臺面組件(10)的重力。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓力平衡三維微調(diào)機(jī)構(gòu),其特征在于:在臺面組件(10)和滑動平面副(3)之間設(shè)有限位機(jī)構(gòu)(14),所述限位機(jī)構(gòu)(14)能夠限制臺面組件(10)、定斜鐵(6)和滑板(2)X、Y方向的移動自由度及轉(zhuǎn)動自由度,還能夠限制動斜鐵(7)Y方向的移動自由度及轉(zhuǎn)動自由度。
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